真空鍍膜機幾種鍍膜方法介紹

真空鍍（dù）膜設備（bèi）的鍍膜工藝有很多。簡單來說，就是利用蒸發、濺射等方（fāng）法，在真空環境下（xià）發射薄膜顆（kē）粒，將其沉（chén）積（jī）在金（jīn）屬、玻（bō）璃、陶（táo）瓷、半導體、塑料件等物體上，形成客戶需要的各（gè）種塗層（céng）。在日常生活中較為常見的技術有真空（kōng）蒸發、濺射鍍膜、離子鍍膜等

真空蒸發鍍膜:原理是用蒸發器在真空條件下加熱薄（báo）膜材（cái）料，使其汽化或升華。蒸（zhēng）發的粒子流直接（jiē）指向基材（cái），在基材上沉積固體薄膜。蒸發又（yòu）可分為電子束蒸發、電阻蒸發、感應蒸發等

濺射鍍膜:在真空條件下，對陰極（jí）施加高壓電激發輝光放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞（zhuàng），使其射（shè）出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。

離子塗層:離子塗層通常是（shì）指在塗層過程中產生大量離子的塗（tú）層方法。在膜的形成過程中，基底不斷受到高能粒子的轟擊，膜層的強度和附著力非常強。當離子鍍用於生產高精度膜層（céng）時，可以過濾掉大顆粒離子，從而獲得高結構、高密度的膜層。

日常生活中較常用的鍍膜技術就是這三（sān）種真空鍍膜設備。具體選（xuǎn）擇取決（jué）於要塗覆的膜層（céng）類型、要（yào）塗覆的（de）工件類型等。