真空鍍膜電源的工作原理

直流電源工作原理（以常見的直流濺射鍍膜（mó）電源（yuán）為例）
直流電源的輸（shū）出端連接到濺射靶材和鍍膜基底所（suǒ）在的真（zhēn）空腔體內。在真空環境下（xià），電源提供穩定的（de）直流電（diàn）壓，使得靶材相（xiàng）對於基底帶負（fù）電。當電壓（yā）達（dá）到一定程度時，腔體內的氣體（通常為惰性氣體，如氬氣）被（bèi）電離形成等離（lí）子體，其（qí）中的正（zhèng）離子在電場（chǎng）作用下加速轟（hōng）擊靶材表麵。靶材原子在離子轟擊下被（bèi）濺射出來，然後沉積到基底表麵，從而（ér）形（xíng）成鍍膜層。電源的（de）作用就是持續穩定（dìng）地提供（gòng）這個驅動離子轟擊以及維持等離子體的電壓，並且通過調（diào）節輸（shū）出電（diàn）壓、電流等參數來控製濺（jiàn）射速率等鍍膜相（xiàng）關參數。

交流電源工作原理（比如中頻、高頻電（diàn）源用（yòng）於某些鍍膜（mó）工藝）
對於中頻（一般頻率在幾十千赫茲）和高頻（頻率更高，可達兆赫茲級別）電源，它們通過交變的電場來使氣體電離形成等離子體（tǐ）。以中頻電源（yuán）為例，其輸（shū）出的交變電流會在真空（kōng）腔體內產生（shēng）周期性變化的電場，使得氣體分子在不（bú）同時刻（kè）分別被加速、電離，產（chǎn）生的等離子體（tǐ）中的離子周期性地轟擊靶材，實（shí）現材料的濺射和鍍膜。高頻電源則利（lì）用更高（gāo）頻率的交變電場，能更有（yǒu）效（xiào）地產生高密（mì）度的等離子體，適（shì）用於一些對鍍膜質量（liàng）、鍍膜速率要求更高的工藝場景。其工作過（guò）程中，電源的頻率、功率等參數對等離子體的狀態以及最（zuì）終（zhōng）的鍍膜效果起著關鍵的調節作用。

脈（mò）衝電源工作原理
脈衝（chōng）電（diàn）源是（shì）按照一（yī）定的時間間隔輸出脈衝式的（de）電壓或電流。在脈衝的高電平階段，會（huì）在真空腔（qiāng）體內產生足夠強的電場使氣體電離、驅（qū）動離（lí）子轟擊靶材等，實（shí）現（xiàn）鍍膜材料的濺射或蒸發等過程；而在脈衝的低電平階段，等離子體等（děng）狀（zhuàng）態會短暫調（diào）整，這樣可以避免連續（xù）工作時可能（néng）出現的一些諸如靶材過熱、等離子（zǐ）體不穩定等問題。通過調（diào）節脈衝的頻（pín）率、寬度、幅值等參數（shù），能夠精（jīng）準地控製鍍膜過程中的瞬（shùn）時功率、平均功率等，進而有效控製鍍膜（mó）的質量和（hé）速率，尤其適用於一些對膜層（céng）微觀結構、性能要求特殊的鍍膜應用。