真空鍍膜電源哪個型號適合精密鍍膜？

一、精（jīng）密鍍膜電源選型核心門檻（必須達標）

• 穩定度：長期輸出 ≤ ±0.1%（72h 滿負荷）

• 紋波：直流（liú） / 脈衝 ≤ 0.05%–0.1%

• 精（jīng）度：電壓 / 電流 / 功率 ≤ ±0.1%–±0.5%

• 抑弧（hú）：滅弧響應 <1μs–500μs，弧能量 <0.2mJ/kW

• 阻抗匹配：負載阻抗比 ≥ 1:100（高端≥1:200）

• 連續運行：7×24h 無故障，MTBF ≥ 100,000h

二（èr）、按工藝場景推薦型（xíng）號（進（jìn）口 + 國產對標）

1. 光學精密鍍膜（AR / 增（zēng）透 / 濾光 / AF / 導電膜（mó））

• 進口標杆

• 超低紋波、寬範圍恒壓 / 恒流，適配高精度光學（xué）沉積

• 穩定度 ≤±0.1%，紋波 <0.05%，精度 ±0.1%

• 適用：光學玻璃（lí）、鏡片、顯示麵板、半導體晶圓

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma DC 4000/6000 係列

• Advanced Energy (AE) Pinnacle Plus 係列

• 國產優選（xuǎn）

• 紋波（bō） <0.1%，穩定（dìng）度 ≤±0.1%，性價比高（gāo）

• 穩定度 5×10⁻⁴（萬分之五），紋波 <0.08%

• 適配光學（xué）鍍膜機（jī），可替（tì）代進口同檔

• 精新 JX-DC 高精度直流係（xì）列

• 英能 EPS-DC 高精度直（zhí）流係列

2. 半導體 / 晶圓 / 光伏精密鍍膜（mó）

• 進口標杆

• 射（shè）頻 / 中頻雙模式，適配半導體量產線

• 13.56MHz 射頻（pín），自（zì）動匹配，功率穩定 ±0.5%

• 適用（yòng）：PECVD、ALD、半導體薄膜沉積

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma RF 13.56MHz 係列（liè）

• AE RFX 係列 / Dressler Cesar 係列

• 國產優選

• 平衡輸出，抑製打弧，適配反應濺射（SiO₂、SiNₓ）

• 自動（dòng）匹配，諧波（bō）抑製，穩定（dìng）度 ≤±0.5%

• 精新 JX-RF 射（shè）頻（pín）係列（13.56MHz）

• 英能 BS 係（xì）列中頻電源（40kHz）

3. 高精密硬質膜（mó） / DLC / 超薄功能膜（HIPIMS）

• 進口標杆

• 納秒級脈衝控製（zhì），穩定度 ≤±0.1%，弧能量 <0.2mJ/kW

• 適用：半導體（tǐ）、光學、高端刀具、DLC

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 係列

• 國產優（yōu）選

• 納秒檢（jiǎn）測，多波形，智能溫控，適（shì）配量產（chǎn）

• 雙機製抑弧，穩定度 5×10⁻⁴，可替代霍廷格（gé）同檔

• 精新 JX-HiPIMS Max 係列

• 新鉑 HiPIM5-100A

4. 脈衝偏壓 / 離子輔助（精密鍍膜標配）

• 進口標杆

• 電壓（yā）精度 ±0.5%，頻率穩（wěn）定 30ppm，阻（zǔ）抗（kàng）比 1:100

• 精密（mì）鍍膜偏壓 / 離子輔助首選

• TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 係列

• 國產優選（xuǎn）

• 抑弧響應 <500μs，三模式（恒（héng）壓 / 恒流 / 恒功率），效率 ≥90%

• 1kHz–150kHz 寬頻，脈寬 3μs–495μs，阻（zǔ）抗比 1:9（行業領先）

• 電壓（yā）精度 ±0.5%，重複性 ≤±0.2%，兼容 4020 接口

• 精新 JX-MSB 係列（直接替代 4020）

• 英能 MS 係列

三、型號選型（xíng）速查表（直接對照）