MSDP单极脉冲磁控溅射电源

主要型号：

主（zhǔ）要特点：
   A 明显（xiǎn）改善靶（bǎ）面电荷积累现象，减小溅射表面的打火次数，提（tí）高膜层质量。
   B 具有平均电源稳定功能，具有理想的电压陡降（jiàng）特性，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
   C 空载电压≥1000V，工作（zuò）电压200~800V。
   D 频（pín）率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可选（xuǎn）择手动控制/模拟量接（jiē）口控制，可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术（shù），使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能（néng）全、性能稳定可靠（kào），生产工（gōng）艺严格完（wán）善。
该系列产品采用先进的（de）DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有（yǒu）抑制（zhì）靶材弧（hú）光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗（xǐ）工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可（kě）大（dà）范围连续（xù）调节（jiē）；
方（fāng）便维护，可靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口扩展（zhǎn）功（gōng）能，方便实现自（zì）动化控制。

主要用途（tú）：

单（dān）极脉冲磁控溅射适用于金属、合金及石墨等靶材镀制金属膜、碳膜和部分氧（yǎng）化物、氮化物及碳化物膜。

镜片在接受镀膜（mó）前必须进行预清洗，这种清（qīng）洗要求很高，达到分子（zǐ）级。在（zài）清洗槽中分别放置各种（zhǒng）清洗液，并采用超声波加强清洗效（xiào）果（guǒ），当镜片清洗完后，放进真空舱（cāng）内，在此过程中要特别注（zhù）意（yì）避免空气中的（de）灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的（de）清洗是在真空（kōng）舱内，在此（cǐ）过程中（zhōng）要特别注意避免空气（qì）中的灰尘和（hé）垃圾再黏附在（zài）镜片表面。最后（hòu）的清洗是在真空舱内镀前进行（háng）的，放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表（biǎo）面（例如用氩（yà）离子），完成此道清（qīng）洗工序后即进（jìn）行减反射膜的镀膜。

真空镀膜电源为什（shí）么在现在会应用那（nà）么（me）多呢，有哪些（xiē）明（míng）显的（de）效果？

概念的区别：

1、真空镀膜（mó）是指（zhǐ）在高真空的条件下加热金属或非金属材（cái）料，使其（qí）蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

2、光（guāng）学镀膜是指在光学零件表面（miàn）上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光（guāng）学（xué）零件表面镀膜（mó）的目的是为（wéi）了达到减少或增加光的反（fǎn）射、分束、分色（sè）、滤光、偏振等要求（qiú）。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的（de）一种)和化学镀膜。