MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改（gǎi）善靶麵電荷積累現象，減小濺（jiàn）射表麵（miàn）的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功（gōng）能，具有理（lǐ）想（xiǎng）的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連（lián）續性（xìng）。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件（jiàn），
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善（shàn）。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參（cān）數（shù）均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極（jí）脈衝磁控濺射適用於（yú）金屬、合金及（jí）石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片（piàn）在（zài）接受鍍膜前必須進行預清洗（xǐ），這種清洗要求（qiú）很高，達到分（fèn）子（zǐ）級。在清洗槽中分別放置各種清洗液（yè），並采用超聲波加強清洗效（xiào）果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在（zài）此過程中要特別注（zhù）意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡（jìng）片表麵。最後的清洗（xǐ）是在真空艙內，在此（cǐ）過程中要特（tè）別注意避免空氣中的（de）灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗（xǐ）是在真（zhēn）空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表麵（例如用（yòng）氬離子），完成此道清洗（xǐ）工（gōng）序後（hòu）即進行（háng）減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會（huì）應用那麽多呢，有哪（nǎ）些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或（huò）絕緣體（tǐ））表麵而形成薄膜的一種（zhǒng）方法。例如，真（zhēn）空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻等。

2、光（guāng）學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要（yào）求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。