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鏡片在接受（shòu）鍍膜前必（bì）須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子（zǐ）級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清（qīng）洗效果（guǒ），當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中（zhōng）要特別注意避免空氣中的灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注（zhù）意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的（de）離子槍將轟擊鏡（jìng）片的表麵（例如用（yòng）氬離（lí）子），完成此道清洗工序後即進行減反射（shè）膜的鍍膜。
真空鍍膜電源為什麽在現在會應用（yòng）那麽多呢，有哪些（xiē）明顯（xiǎn）的效（xiào）果？
概念的區別：
1、真空鍍膜是指在高真空（kōng）的條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材料，使其（qí）蒸發並凝（níng）結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2、光學鍍膜是指在光（guāng）學零件表麵上（shàng）鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工（gōng）藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了（le）達到減少或增加（jiā）光的（de）反射（shè）、分束、分色（sè）、濾光、偏振等要求。常用（yòng）的鍍膜（mó）法有真空鍍（dù）膜(物理鍍膜（mó）的一種)和化學鍍膜。
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