真（zhēn）空鍍膜電源廠家簡述離子鍍的原理（lǐ）

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加熱（rè）、電子束加熱、等離子電（diàn）子束加熱、高頻感應加熱等（děng）。

真空鍍膜（mó）電源廠家

離子鍍是（shì）真空室中，利（lì）用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸（zhēng）發物質（zhì）粒子轟擊作用的同時，將蒸（zhēng）發物或反（fǎn）應物沉積在基（jī）片上（shàng）。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技（jì）術和真空蒸發三者有機（jī）結合（hé）起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大（dà）了薄（báo）膜的應用（yòng）範圍。多弧電（diàn）源（yuán）其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。真空鍍膜電源廠家首次提出離子鍍（dù）原理，起工作（zuò）過程是：

先將真（zhēn）空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通 高壓電源，在蒸發源與（yǔ）基片之間建立（lì）一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基片電極接上5KV直（zhí）流負高壓，從（cóng）而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的惰性氣體離（lí）子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣（qì）化，起原子進入等離子區，與惰（duò）性（xìng）氣體離（lí）子及電子發（fā）生（shēng）碰（pèng）撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離（lí）子以較高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層（céng）質（zhì）量得到改善。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有（yǒu）著很大的區別。多弧離子鍍采用的（de）是弧光放電，而並不（bú）是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子（zǐ）鍍的原理就是把陰極靶（bǎ）作為蒸發（fā）源，通過靶與陽極殼體之（zhī）間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積（jī）。