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真空鍍（dù）膜是真空應用領域的一個突（tū）破性技術，利用物理（lǐ）或者化學方法並吸收一係列新技術而成的（de）工藝（yì），目的就是（shì）為了在實際生產中為產品創造薄膜保（bǎo）護層。工藝主（zhǔ）要分為真（zhēn）空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空鍍膜電源廠家介紹真空鍍膜（mó）有什麽特點：
（1）成膜溫度低。鋼鐵（tiě）行業中（zhōng）的熱鍍鋅鍍膜溫度一（yī）般是400℃～500℃，化學鍍膜溫度（dù）更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起（qǐ）被鍍件的變形、變質，而真空（kōng）鍍膜的溫度低，可以降到常溫（wēn），避免了常規鍍膜工藝的弊端。
（2）蒸發源選（xuǎn）擇自由（yóu）度大。可選擇（zé）的鍍膜（mó）材料多而不受材料熔點（diǎn）限製，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種複合膜。
（3）不使用（yòng）有害氣體、液體，對環境無不利影響。在（zài）當前越來越重視環保（bǎo）的大趨勢下，這點極其可貴。
（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜（mó），鍍膜純度高，耐（nài）蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等（děng）問題。
（5）工（gōng）藝靈活，改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層（céng）、多層及混（hún）合層。鍍（dù）膜厚度易於控製。
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