真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術,利用物(wù)理(lǐ)或者化學方法並吸收一係列新技術而成(chéng)的工藝,目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主(zhǔ)要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離(lí)子鍍三種。真空(kōng)鍍膜電源(yuán)廠(chǎng)家(jiā)介紹真空鍍(dù)膜(mó)有什麽特點:

(1)成膜溫度低。鋼鐵行(háng)業(yè)中(zhōng)的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以(yǐ)上。這樣高的溫度很容易引起(qǐ)被鍍件的變形、變質,而真(zhēn)空鍍膜的溫度(dù)低,可以降到常溫,避免了常規鍍膜工藝的弊端。
(2)蒸發(fā)源選擇自由度大(dà)。可選(xuǎn)擇(zé)的鍍膜材料多而不受材料熔(róng)點限(xiàn)製,可鍍種類眾多的金屬氮化膜(mó),金屬氧化膜和金屬炭化物及(jí)各種複合膜。
(3)不使用有害氣體、液體,對環境(jìng)無不利(lì)影響。在當前越來越重視環保的(de)大趨勢(shì)下(xià),這點極其可貴。
(4)帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在(zài)熱鍍(dù)鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問題。
(5)工藝靈活(huó),改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混合層。鍍膜厚(hòu)度易於控製。
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