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真空鍍膜有蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜三種形式:當濺射鍍膜用高能(néng)粒(lì)子轟擊固體表麵時,可以獲(huò)得固體表麵的粒子。能量從表麵逸出並沉積在基板上;離子鍍蒸發物質的(de)分子通過電子撞擊被電離,並以(yǐ)離子(zǐ)的(de)形式沉積在固體表麵。
所有(yǒu)三種形式的真空鍍膜技術都需要快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜過程。由於工件在鍍膜過(guò)程中處於封閉的真空環境中,真空設備失去了很多(duō)產品技術和性能。現(xiàn)有的真(zhēn)空鍍膜設備也有(yǒu)冷卻裝置,但其冷卻效果不是很(hěn)理想。

不能滿足人們的需要,為彌補現有技術的不足,真空鍍膜電(diàn)源廠家提供一種真空鍍膜設備手套(tào)箱蒸發一體機。該係統集成了真空鍍膜係統和手套箱係統,可在高(gāo)真空蒸發室中完成薄膜蒸發。樣品在手套箱中的高純度惰性氣體氣氛下蒸發後儲存、製備和測試。為保證塗層產品工藝和性能質量要求而設置的快速冷卻係統,可實現快速冷卻自動控製(zhì)的目(mù)的。
蒸發鍍膜與手套箱相結合,實現(xiàn)了蒸發、封裝、測試等過程的全封閉生產(chǎn),使整個薄膜生長和器件製備過程高度集成在一個環境氣氛可(kě)控的完整係統中,無(wú)需有機大-區域電路準備。大氣環境中不穩定因素的影響,保證了高性能、大麵積有機光電器件和電路的製備。
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