真空鍍膜和光學鍍膜差異

一、概念差異

1.真空鍍膜是指在高真（zhēn）空條（tiáo）件（jiàn）下加熱金屬或非金屬材料（liào），使其在被鍍物體(金屬（shǔ）、半導體或絕緣體)表（biǎo）麵（miàn）蒸發（fā）凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的（de）工藝。在光學元件表麵塗膜的目的是為了減少或增加（jiā）光的（de）反射、分束、分色（sè）、過濾、偏振等要求。常用的包覆方法有（yǒu）真空包覆(物理包覆（fù）的一種)和化學包覆。

二、原則差異

1. 真空鍍膜是真（zhēn）空應用（yòng）的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物（wù）理或化學（xué）方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體（tǐ）束、射（shè）頻、磁（cí）控管等一係列新技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的新工（gōng）藝。簡（jiǎn）單地說，就是在真空中蒸發或濺射金（jīn）屬、合金或化合物，使其凝固並沉積在塗層（céng）物體(稱為基（jī）材、襯底或襯底)上的方法。

2. 光的幹（gàn）涉在薄（báo）膜光學中有著廣泛的應用。光學薄膜（mó）技（jì）術常用的方法是利用真空濺射在玻璃基板（bǎn）上塗覆（fù）薄膜，一般用來控製基（jī）板對入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損耗，提高成像質量，在表麵塗覆（fù）一層或多層透明的介電膜，稱為防（fáng）反（fǎn）射膜或防反（fǎn）射膜。

隨著激光技術（shù）的發展，對膜層的反射率和透射率有了不同的要（yào）求，促進（jìn）了多層高（gāo）反射膜和寬帶（dài）增透膜的發展。為滿足各種應用的需要，采用（yòng）高反射膜製造偏光反（fǎn）射（shè）膜、彩色光譜膜（mó）、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多次反射和透射，形成（chéng）多（duō）束幹（gàn）涉（shè）。通過控製膜層的折射率和厚度，可以得到不同（tóng）的光（guāng）強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

三、方法和材料的（de）差異

1. 材（cái）料（liào）采用（yòng）真空鍍膜（mó）法:

(1)真空蒸發鍍膜（mó）:對待鍍膜基材進行清（qīng）洗後，置於鍍膜室內，將其抽離，並將膜材加（jiā）熱至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝結成薄膜。

(2)陰極濺射鍍:將待（dài）鍍基材置於陰極（jí）對麵，將惰性氣體(如氬氣)引入真空室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極（jí）接2000V直流電源激發輝光（guāng）放電。帶正電的氬離子（zǐ）與陰極碰撞，使陰極（jí）射出原子。濺落的原子通過（guò）惰（duò）性氣氛沉（chén）積在襯底上，形成薄膜（mó）。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或（huò）有機化合物進行熱分解得到沉（chén）積薄膜（mó）的過（guò）程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發和陰極濺射的有機結合（hé），結合了兩者的工（gōng）藝特點。各種塗裝方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法材料（liào）

(1)氟（fú）化鎂:一種純度高的無色四方結晶粉末。用它來製作光學鍍膜可以提高透光率，防止（zhǐ）坍塌點。

(2)二氧化矽:無色透明（míng）晶體，熔（róng）點高，硬度（dù）高，化學穩定性好。純度高，用它製（zhì）備高質量的SiO2塗（tú）層，蒸發（fā）狀（zhuàng）態好（hǎo），無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧（yǎng）化鋯:白色重晶態，高折射（shè）率，耐高溫。化學性質穩（wěn）定，純度高。可用於製備無斷裂點的高（gāo）質量氧化鋯塗層（céng）。