真空鍍膜和光學（xué）鍍膜差異

一、概念差異

1.真（zhēn）空鍍膜是指在高真空條件下加熱金屬（shǔ）或非金（jīn）屬材料，使其在被鍍物體（tǐ）(金屬、半導（dǎo）體或（huò）絕緣體)表麵蒸發（fā）凝結形成薄膜的一種方法。如真（zhēn）空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指（zhǐ）在（zài）光學（xué）元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學元件表麵塗膜的（de）目（mù）的是為了減少或增加光的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求。常用的（de）包覆方（fāng）法（fǎ）有真空（kōng）包（bāo）覆(物理包（bāo）覆的一（yī）種)和化學包覆。

二、原則差異（yì）

1. 真（zhēn）空鍍膜是真空應用（yòng）的一（yī）個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束、分（fèn）子束、離子束、等離子體束、射頻（pín）、磁控管（guǎn）等一係列新技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜製備的（de）新工藝。簡單地說，就是（shì）在真空中蒸發或濺射金（jīn）屬、合金（jīn）或化合物，使其凝固並沉積在塗（tú）層物體(稱為基材、襯底（dǐ）或襯底（dǐ）)上的方法。

2. 光的幹涉在薄膜光學中有著廣泛的應用。光學（xué）薄膜技術常用（yòng）的方法是利（lì）用真（zhēn）空濺射在玻璃基板上塗覆（fù）薄膜，一（yī）般用來控製基板對入射光束（shù）的反射率和（hé）透射（shè）率，以滿足不同的需要。為了消除（chú）光學元件表麵的反射損耗，提高成像質量（liàng），在表麵塗覆一層或（huò）多層透明（míng）的介電膜，稱為防反射膜或防反射膜。

隨著（zhe）激光技術的發展，對膜（mó）層的反射率和透射率有了不（bú）同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用的（de）需要，采用高（gāo）反（fǎn）射膜製造偏光反射膜、彩（cǎi）色光譜膜、冷光（guāng）膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多次（cì）反射和透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折射（shè）率和厚度，可以得到不（bú）同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

三、方法和（hé）材料的差異

1. 材料采用真空鍍膜（mó）法:

(1)真空蒸發鍍膜:對（duì）待鍍膜基材進行清洗後，置於鍍（dù）膜（mó）室內，將其抽離，並將膜材加熱（rè）至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝（níng）結成（chéng）薄膜。

(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於（yú）陰極對麵，將惰性（xìng）氣體(如氬氣)引入真空室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極接2000V直流電源激發輝光放電。帶正電的（de）氬離子與陰極碰撞（zhuàng），使陰極射（shè）出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或（huò）有機化合物（wù）進行熱分解得（dé）到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是（shì）真空蒸發和陰極（jí）濺射的有（yǒu）機結合，結合了兩者的工（gōng）藝特（tè）點。各種塗裝方式（shì）的優缺點（diǎn）如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂:一種（zhǒng）純度高（gāo）的無色四方結晶粉末。用（yòng）它來製作光學鍍膜可以（yǐ）提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色（sè）透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用它製備（bèi）高質量的SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外（wài）線和可見光。

(3)氧化鋯:白色（sè）重晶（jīng）態，高折射率，耐高溫。化學性質穩定，純度高。可用於製備無斷裂點的高質量（liàng）氧化鋯塗層。