真空鍍膜（mó）應用的主要方法

真空鍍膜應用，簡單來（lái）說就（jiù）是指在真（zhēn）空環境下，利用蒸發、濺射以及後續的冷凝（níng）等（děng）方法，在金屬、玻璃（lí）、陶瓷、半導體（tǐ）、塑（sù）料件等物（wù）體上沉積（jī）金屬（shǔ）薄膜或塗層。真空鍍（dù）膜應用與傳統鍍（dù）膜方法相比，屬於幹式鍍（dù）膜方法，其主要方法有以下幾種:

真空蒸發鍍膜

原理是用蒸發（fā）器在真空條件下加熱蒸發（fā）的物質，使其蒸發或升華。蒸發的離子（zǐ）流直接指向襯（chèn）底，在襯底上沉積固體薄膜。

濺射沉（chén）積

濺射鍍膜是在真空條件下，對陰極施加2000V的高壓（yā）激發輝光放電的過程（chéng）。帶正（zhèng）電的氬離子與陰極碰撞，使其釋放出（chū）原子，這些原子隨後在惰性氣氛中沉積在襯底（dǐ）上，形成一層薄膜。

離子塗層

幹式螺杆泵生（shēng）產廠家已（yǐ）經（jīng）推出（chū）了真空（kōng）離子鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上，結合了兩者（zhě）的工藝特（tè）點而發展起來的。在真空（kōng）條件下，用氣體放電使工作（zuò）氣體或（huò）蒸發物（wù）質(膜材料（liào）)部分電離，在離子轟擊下，蒸發（fā）物質或其反應物沉積（jī）在襯底（dǐ）表（biǎo）麵。在膜的形成過程中，基底總是受到（dào）高能（néng）粒子的轟擊，使其非常（cháng）幹淨。

真空（kōng）繞組鍍膜

真空纏（chán）繞鍍膜是（shì）一種利（lì）用物理氣相沉積對柔性基（jī）材進行連續鍍膜的技術，以達到柔性基材的某（mǒu）些功能和裝飾性（xìng）能（néng）。