真空鍍膜應用的主要方（fāng）法

真空鍍膜應用，簡單來說就是指在真空環境下，利（lì）用蒸發、濺（jiàn）射以及後續的（de）冷凝等方（fāng）法，在金屬、玻璃、陶瓷、半（bàn）導體、塑（sù）料件等物體上（shàng）沉（chén）積金屬薄膜或塗層。真空鍍膜應用與傳（chuán）統鍍（dù）膜方（fāng）法相比，屬於（yú）幹（gàn）式鍍膜方法，其主（zhǔ）要方法有以下幾種:

真空蒸發（fā）鍍膜

原理（lǐ）是用蒸發器在真空條件下加熱蒸發的物質（zhì），使其蒸發或升華。蒸發的離子流直接指向襯（chèn）底（dǐ），在襯底（dǐ）上沉積（jī）固體薄（báo）膜。

濺射（shè）沉積

濺射鍍膜是在真空條件下，對陰極（jí）施加2000V的高壓激發（fā）輝光放電的過程。帶正（zhèng）電的氬離子與陰極碰撞，使其釋放出原子，這（zhè）些原子（zǐ）隨後在惰（duò）性氣氛（fēn）中（zhōng）沉積（jī）在襯底上，形成一層薄膜。

離子塗層

幹式螺杆（gǎn）泵（bèng）生產廠家已經推出了（le）真空離子鍍膜。它是在上述兩（liǎng）種真空鍍膜技術（shù）的基礎上，結合了兩者的工（gōng）藝特點（diǎn）而發展起（qǐ）來的。在真空條（tiáo）件下，用氣體放電使工（gōng）作氣體或蒸（zhēng）發物質(膜材料)部分電離，在離子轟（hōng）擊下，蒸（zhēng）發物質或其反應物沉積在襯底表麵。在膜的形成過程中，基底總（zǒng）是受到高能粒子的轟擊，使其非常幹淨。

真空繞組鍍膜

真空纏繞鍍膜是一種（zhǒng）利用物理氣相沉積對柔性基（jī）材（cái）進行連續鍍膜的技術，以達到柔性基材的某些功能和裝飾（shì）性能。