脈衝磁控濺（jiàn）射電源簡介

說起單極脈（mò）衝磁（cí）控（kòng）濺射（shè）電源，可能有點困惑，但我（wǒ）想說的是，它是對直流磁控濺射電源（yuán）的升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩形波（bō）電壓脈（mò）衝電源代替（tì）傳統直流電（diàn）源的一種方法。脈衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜（mó）缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降（jiàng）低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的精選工藝。一個周（zhōu）期有正電（diàn）壓和負電壓兩個階段，在負（fù）電壓段中，電源作用於靶材的濺射，正電壓段將電子積累的（de）正電荷引（yǐn）入靶材表麵，使表麵清潔，露出（chū）金屬表麵。施加在靶材上的脈衝電壓（yā）與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對於400~500V，電（diàn）源頻率（lǜ）在10~350KHz，在保證穩定放（fàng）電的前提下，應盡可能（néng）低（dī）地取頻（pín）率#因為等離子體中的電子相對於離子具有更高的遷移率，所以正電壓值隻需要是負電壓的10%到20%，就可以有效地中（zhōng）和（hé）積（jī）聚在靶表麵的正電荷。占空比的選擇確保了濺（jiàn）射過程中靶表麵（miàn）積累的（de）電荷（hé）在正電壓階段可以完全被中和，從而（ér）盡可能地（dì）提高占空比，以實現電源的較大效率。

單極脈衝磁控濺射電源的優點是，它可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產（chǎn）生的（de）薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優（yōu）點，是沉積濺射絕緣材（cái）料的較佳工藝