江（jiāng）蘇HVP高壓窄脈衝電源

主（zhǔ）要（yào）型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功（gōng）能，具有理想的電壓陡降特性，
有（yǒu）效抑製工件表麵打火，明顯（xiǎn）提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜（mó）層結合力。
   B 電壓脈（mò）衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占（zhàn）空比1%~5%(最（zuì） 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇（zé）手動控製/模擬量接口控製（zhì），可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開（kāi）關器件（jiàn），
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既（jì）保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主要（yào）用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表（biǎo）麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展（zhǎn），技術也是不斷得在創新。真（zhēn）空鍍膜電源的運用範圍是（shì）越來越廣泛（fàn）了，真空（kōng）鍍膜（mó）技術是一種新（xīn）穎的材料合（hé）成與加工（gōng）的新技術，是表麵工程技術領域（yù）的重要組成部分（fèn）。隨著全球製造業高速發（fā）展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集（jí）成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的（de）發展來看，對真空鍍膜設備、技術材（cái）料需求都在不（bú）斷增加，包（bāo）括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫（héng）向均可磁化的數據記錄儲存膜（mó）；充分展示和應用各（gè）種光（guāng）學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽（qì）車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾（shì）效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨（mó）超硬膜；納米材料研究方麵（miàn）的各種功能性薄膜等（děng）。對於（yú）國內真空鍍（dù）膜設備製造企業發展建（jiàn）議如下：

1、目前實體（tǐ）經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟（jì）處於繼續探（tàn）底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產（chǎn）業結構優（yōu）化升級，重（chóng）質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有（yǒu）自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢（shì），堅（jiān）持“以信息（xī）化帶（dài）動工業化，以工業化促（cù）進信息（xī）化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環（huán）境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工（gōng）藝水平的科研（yán）院所、大（dà）型（xíng）企業、高（gāo）校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍（dù）膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展（zhǎn）前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注（zhù）重技術能力積累，製造偏向（xiàng）服務（wù）型，向世界真空鍍膜設備行（háng）業等製造業價值鏈高端挺（tǐng）進。