江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電源（yuán）

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 明顯改善靶麵（miàn）電荷（hé）積累現象，減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平（píng）均電源穩定功能，具有理（lǐ）想的（de）電（diàn）壓陡降（jiàng）特性，
充分滿足（zú）磁控濺射（shè）工藝過程的連續性。
   C 空載電壓（yā）≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製（zhì）/模擬量接（jiē）口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格（gé）完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係（xì）統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清（qīng）洗工藝的（de）穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈（mò）衝磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製（zhì）金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮（dàn）化物及（jí）碳化物膜。

鏡片在（zài）接受鍍膜前必須進行預清（qīng）洗，這種清洗要求很（hěn）高，達（dá）到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超（chāo）聲波加（jiā）強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真（zhēn）空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的（de）灰塵和垃圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗（xǐ）是在真空艙內，在（zài）此過程中要（yào）特別注意避免空氣中（zhōng）的灰（huī）塵（chén）和垃圾（jī）再黏附（fù）在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的（de）離（lí）子槍（qiāng）將轟（hōng）擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完（wán）成此道清洗工序後（hòu）即進行減反射（shè）膜的鍍（dù）膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應用（yòng）那麽多呢，有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是（shì）指在高真空的條件下加熱金屬或非金（jīn）屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的（de）一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是（shì）指在（zài）光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄（báo）膜的（de）工（gōng）藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為（wéi）了達到減少或增加光的反射（shè）、分束（shù）、分色、濾（lǜ）光、偏振等要（yào）求。常用的鍍（dù）膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一（yī）種)和化學（xué）鍍膜。