江（jiāng）蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺（jiàn）射表麵的打火次數，提高膜層質量（liàng）。
   B 具有（yǒu）平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降（jiàng）特性，
充分滿足磁（cí）控濺射工藝（yì）過程的連續性。
   C 空載電壓（yā）≥1000V，工作（zuò）電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占（zhàn）空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可（kě）靠性（xìng）高；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途：

單極脈衝磁控濺（jiàn）射適用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜（mó）前必須進行預清洗，這種清洗要（yào）求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置（zhì）各種清洗液，並（bìng）采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗（xǐ）完後，放進真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空氣中（zhōng）的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡（jìng）片（piàn）表麵。最後的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵（chén）和垃（lā）圾再黏附在鏡片表麵（miàn）。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍（qiāng）將轟（hōng）擊鏡片的表麵（例（lì）如用（yòng）氬離子），完成此（cǐ）道清（qīng）洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空（kōng）鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明（míng）顯的效果？

概念（niàn）的（de）區別（bié）：

1、真空鍍（dù）膜是指在（zài）高真空的條（tiáo）件下加熱金屬或非金（jīn）屬材料，使（shǐ）其蒸發並凝結於鍍（dù）件（金屬、半導體或（huò）絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍（dù）鉻等。

2、光（guāng）學鍍膜是指在光學（xué）零件表麵上鍍上一層(或多層（céng）)金屬(或介質)薄膜的工（gōng）藝過程（chéng）。在光學（xué）零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分束（shù）、分（fèn）色（sè）、濾（lǜ）光、偏振等要求。常用（yòng）的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學（xué）鍍膜。