上海HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑（yì）製工件（jiàn）表（biǎo）麵打火，明顯提高鍍件的成（chéng）品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大（dà）脈衝寬度25uS)。
   D 可選（xuǎn）擇手動控（kòng）製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或（huò）MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性能穩定（dìng）可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產（chǎn）品采用（yòng）先進的DSP控製係統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有（yǒu）抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能（néng），
具有（yǒu）極佳的負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清（qīng）洗工（gōng）藝（yì）的穩定性，又（yòu）提高了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展（zhǎn）功能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

高壓窄脈衝電源適用於特（tè）殊鍍膜（mó）工藝時被鍍工（gōng）件表麵的輝（huī）光清洗（xǐ）、鍍膜前的離子轟（hōng）擊和鍍膜時的離子加（jiā）速等。

社會不斷（duàn）發展，技術也是不斷得（dé）在創新。真（zhēn）空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍（dù）膜技術是一種新穎的材料合成與加工的（de）新技術，是表麵工程技術（shù）領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術（shù）應用越來越廣（guǎng）泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽（yáng）能光伏、化工、製藥（yào）等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模（mó）集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應用（yòng）各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯（xiǎn）示器上（shàng）的導電（diàn）膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾（shì）膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的（de）耐磨超硬膜；納米（mǐ）材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造（zào）企（qǐ）業（yè）發展建議如下（xià）：

1、目前實體經濟走勢（shì）整體疲（pí）弱，複蘇充（chōng）滿（mǎn）不確定性，經濟（jì）處於繼續探底過程，真空鍍（dù）膜設備（bèi）製造企業應著力進行產業結（jié）構優化升級，重質量、重服（fú）務明確市場定位（wèi），大力（lì）研發擁（yōng）有自主（zhǔ）知識（shí）產權（quán）的新產品新工藝，提高產（chǎn）品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以（yǐ）工業化促進信息化”，走出一條科（kē）技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的（de）新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先（xiān）進技術和工藝水平（píng）的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣（guǎng）闊的應用（yòng）領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術（shù）進步（bù），更加（jiā）注重技術能（néng）力積累，製（zhì）造偏向服務型，向（xiàng）世界真空鍍膜設（shè）備行業（yè）等製造業價值鏈高端挺進。