上海MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質（zhì）量。
   B 具（jù）有平均電源穩定功（gōng）能，具有理想的電壓（yā）陡降特性，
充分滿足（zú）磁控濺射工藝過程（chéng）的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電（diàn）壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占（zhàn）空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的（de）DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具有（yǒu）極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶（bǎ）麵清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途（tú）：

單極（jí）脈（mò）衝磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等靶（bǎ）材鍍製（zhì）金屬膜、碳膜（mó）和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清（qīng）洗，這（zhè）種清洗要求很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分別放置各（gè）種清洗（xǐ）液，並采用超聲波（bō）加強清洗效果（guǒ），當（dāng）鏡（jìng）片（piàn）清洗完後，放進真空艙內（nèi），在（zài）此過程中要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏（nián）附在鏡片表麵（miàn）。最後的清洗是在真（zhēn）空艙內，在此過程中（zhōng）要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片表（biǎo）麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例（lì）如用氬離子），完成此道清洗工序（xù）後即進行（háng）減反（fǎn）射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明（míng）顯的效（xiào）果？

概（gài）念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真空（kōng）的條（tiáo）件下（xià）加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真（zhēn）空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指（zhǐ）在光學零（líng）件表麵上鍍上一層(或多層)金屬（shǔ）(或介質)薄（báo）膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的（de）是（shì）為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光（guāng）、偏振等要求。常用（yòng）的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍（dù）膜的一種)和化學鍍膜。