武漢MSDP單極脈衝磁控濺射電（diàn）源

主要型號：

主要（yào）特點：
   A 明（míng）顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火（huǒ）次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源（yuán）穩定（dìng）功能，具有理想的電壓陡降特性，
充（chōng）分滿足磁控（kòng）濺射工藝過（guò）程的連續性（xìng）。
   C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作電（diàn）壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先（xiān）進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係列產品采用（yòng）先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能（néng）力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝（yì）的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用於（yú）金屬、合（hé）金及石墨（mò）等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化（huà）物、氮化（huà）物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進（jìn）行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級（jí）。在清洗槽中（zhōng）分別放置各種清（qīng）洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後（hòu），放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避（bì）免空氣中（zhōng）的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要（yào）特別注意避免空氣中的灰（huī）塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗（xǐ）是在真（zhēn）空艙內鍍（dù）前進行的，放置在真空艙內的離子（zǐ）槍將轟（hōng）擊鏡片的表麵（例（lì）如用氬離子），完成此道清洗工序後即進（jìn）行（háng）減反射膜的鍍膜。

真空（kōng）鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效果（guǒ）？

概念（niàn）的區（qū）別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於（yú）鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例（lì）如，真（zhēn）空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光學零件表麵鍍（dù）膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常（cháng）用的鍍膜法有真（zhēn）空（kōng）鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學（xué）鍍膜。