主要型號:
型號 | 功率(kW) | 工作電壓(V) | 最 大工(gōng)作電流(A) | 主機外形尺寸 | 升壓轉換器外形尺寸 | 冷(lěng)卻 方式 |
HVB-5kV1A | 5 | 5kV | 1A | 480*243*565 (WHD) | 220*230*400 (WHD) | 風冷 |
HVB-5kV2A | 10 | 5kV | 2A | |||
HVB-5kV4A | 20 | 5kV | 4A |
主(zhǔ)要特點(diǎn):
A 采用先進的電流型開關電源技術,減小輸出儲能元件,
同時提高了(le)抑製(zhì)打火及重啟速度。
B 具備恒流/恒功率模式可選。
C 具有理想的電(diàn)壓(yā)陡降特性,自動識別偽打火現象,
充分滿足轟擊清洗過程的連續(xù)性。
D 主要參數可大範圍調節。
E 可選擇(zé)手動控製/模擬量接口控製,可(kě)選配RS485通訊接口。
采用(yòng)先進的(de)PWM脈寬調製技術,使用進口(kǒu)IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工(gōng)藝嚴(yán)格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統(tǒng),充分保證(zhèng)鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光(guāng)放電及抗短路功(gōng)能,
具(jù)有極佳的負載匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工(gōng)藝的穩定性,又提高了靶(bǎ)麵清洗速度;
主要(yào)參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接(jiē)口擴展功能,方(fāng)便實現自動化控製。
主要用途:
MSB高壓雙極清洗電源適用於工件鍍膜前的高壓轟擊清洗和鍍矽油保護膜。
在高技術產(chǎn)業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種(zhǒng)的真(zhēn)空鍍膜技術已(yǐ)在國民經濟各個領(lǐng)域得到應用。真空鍍膜技術是真(zhēn)空應用技術的(de)一個重要分支,它已廣泛地應 用(yòng)於(yú)光(guāng)學、電子(zǐ)學、能源開(kāi)發、理(lǐ)化儀器、建築機械、包裝、民(mín)用製品、表麵科學以及科學(xué)研究等領域(yù)中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍.濺射鍍、離子鍍(dù)、束流沉積鍍(dù)以及分子束外延等。這種真空鍍膜電源(yuán)優勢會體現的比較明顯。

選用了領先的(de)PWM脈寬調製技(jì)術,具(jù)有傑出的動態特性和抗(kàng)幹擾(rǎo)才能,動(dòng)態呼應時刻小於10mS。規劃有電壓、電流雙閉環操(cāo)控電路,可實時對輸出電壓電流的操控,能有(yǒu)用處理濺射過程(chéng)中陰極靶麵的(de)不清潔導致(zhì)弧光放電造成大電流衝擊導(dǎo)致(zhì)電源的損壞疑問(wèn)。選用數字化DSP操控技(jì)術,主動操控電源的恒壓恒流狀況。在起弧和維(wéi)弧時能(néng)主動疾速操控電壓電流使起弧和維弧作業更安穩。
真空室裏的堆積條件跟著時(shí)刻發作改(gǎi)動是常見的表象。在一輪運轉(zhuǎn)過中,蒸發源的(de)特性會跟著膜材的耗費而改動,尤其是規劃中觸及多層鍍膜時,假如技術進程需繼續(xù)數個小(xiǎo)時,真空室的(de)熱梯度也會上升(shēng)。一起,當真空(kōng)室內壁發作堆積變髒時,不一樣次序的工效逐步發生區別。這些要素(sù)雖然是漸進的並可以進行抵償,但仍然大概將其視為體係公役的一部分。