浙江MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要（yào）特點：
   A 明顯改善靶麵電荷積累（lèi）現象，減小濺射表麵（miàn）的打火次（cì）數（shù），提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，
充（chōng）分滿足磁控濺射工（gōng）藝過程的連續性。
   C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手（shǒu）動（dòng）控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參數均（jun1）可大（dà）範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用（yòng）於金（jīn）屬、合（hé）金及石墨等靶材鍍製金屬膜（mó）、碳膜和（hé）部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片（piàn）在接受鍍膜前（qián）必須進行預清洗，這（zhè）種清洗要求很高，達到分子（zǐ）級（jí）。在清洗槽中分別放置各種清洗（xǐ）液，並采用超聲波加強清（qīng）洗效果，當鏡片（piàn）清（qīng）洗完（wán）後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的清洗（xǐ）是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內（nèi）的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後（hòu）即進行減反射（shè）膜的鍍（dù）膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽（me）多呢（ne），有哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空（kōng）鍍膜是指在（zài）高真空的條（tiáo）件下加（jiā）熱金（jīn）屬或非金（jīn）屬材料，使其蒸發（fā）並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣（yuán）體）表麵而（ér）形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光（guāng）學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的（de）工藝過（guò）程。在光學（xué）零件表麵鍍膜的目（mù）的是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分束、分色、濾（lǜ）光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜的一種)和化學鍍膜。