浙江MSD係列小功率直流磁控濺射電源（yuán）

主要型號：

主要（yào）特點：
   A 采用先（xiān）進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用（yòng）在鋁靶鍍膜（mó）優勢更為（wéi）明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選（xuǎn）。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工（gōng）藝的重複性。
  C 具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 可選擇手動控製/模擬量（liàng）接口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
  E 專門（mén）為試驗型真空設備（bèi）定製，相對生產型設備的直流磁控濺射電源（yuán），
為客戶減小電源（yuán）體積和降（jiàng）低成本
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器（qì）件，
體積（jī）小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用（yòng）先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具（jù）有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種（zhǒng）金屬。

真空（kōng）鍍膜電源的故（gù）障現象分析及排除，在實際使用的過程中，真空鍍膜（mó）機就出現（xiàn）過（guò）不少故障，其中高壓電源部分的故障較多，也比較複雜，下麵就幾種典型的故（gù）障進行分析。

1、增（zēng）加電子束流時，高壓沒有指示

真空鍍膜（mó）機在（zài）正常工作（zuò）的時候，設備的主開關電路中的開關管（guǎn）處於飽和的導通狀態，當（dāng）管壓下降（jiàng）保持在100V左右的時候，柵極得到（dào）正偏壓50V，高壓指示6kV（或（huò）10kV）。從檢測電路（lù）上得到的電壓控製（zhì）信號不（bú）足以使穩壓管擊穿（chuān）導通。在不正（zhèng）常的（de）情況下，增加束流時，由於束斑的位置不在中心，電子束（shù）可能會打到坩堝的邊緣，或者束（shù）斑的位置在中心，但（dàn）蒸鍍的材（cái）料被打穿等原因，都會出現高壓無指示。這是由（yóu）於高（gāo）壓輸出被近似短路，造成電子束流大於預定的值，主開（kāi）關管處於截止狀（zhuàng）態，承受全部的高壓（yā），讓高壓無法輸出。由於打火而造成（chéng）束流過大的（de）時候，在電流檢測（cè）電路時取得的過流信（xìn）號，使得穩壓管被擊穿導通，管壓處於導通狀態，這時高壓就沒有指（zhǐ）示了。

2、無束流（liú）時，高壓指（zhǐ）示不穩定

在正常的情況（kuàng）下，即使有束流高壓指示也應（yīng）該是穩定的，無束流時高壓指示不穩定，高壓表指針就會來回的擺動，這就是不（bú）正常（cháng）情況。從（cóng）原理上分析，高壓電源（yuán）和負載有問題都會出現這種現象。為了便於排查，先將高壓電源和負（fù）載分開，如果問題還在，就（jiù）證明問題不在負載那方（fāng）麵，而是在高壓電源那方麵，高壓電源是（shì）由高壓部分和自動電源的（de）主開關管進行切斷的。當有束流時，高壓指示（shì）頻繁的擺動，就是高壓出（chū）現連續性的過流打火，自動複位部分就開（kāi）始運行，使得高壓電源的（de）主開關管始（shǐ）終處在切斷（duàn）和導通這兩種狀態，反映在高壓表上的（de）指針就金頻繁的擺動。在實際的修理過程中發現，有（yǒu）時會出現這種故障並不是由於高壓電（diàn）源內部的原因，而是真空室內有汙染，因為設備（bèi）使用了（le）很多年，鍾罩內壁上聚集了許多蒸鍍的材料。在有束流的情況下，會產生二次、三次電子，從而產生較大的假束流，使得主（zhǔ）開關管不停的導通和截止，高壓指示就不穩定了。消除這種（zhǒng）故障，可先將電（diàn）子槍、坩鍋、高壓電極進（jìn）行徹底地清洗，如味故（gù）障還（hái）沒有補消（xiāo）除，再將鍾罩內所有的器件和（hé）鍾罩內壁進行（háng）徹底的清（qīng）洗，故障就會被消（xiāo）除（chú），高壓指示就不會在頻繁的擺動了。