真空鍍膜是指在（zài）真空環境下，將某種金屬或金屬化（huà）合（hé）物以氣相的方式堆積到資料外表（通常是非金屬資料），歸於（yú）物理氣相堆積工藝。由於鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金（jīn）屬化。廣義的真空鍍膜還（hái）包含在金屬或非金屬資料外表真空蒸鍍聚合物等非金屬功用（yòng）性薄膜。在所（suǒ）有

社會不斷發展，技術也是不斷得在（zài）創新。真空鍍膜電源的運用範圍是（shì）越（yuè）來越廣泛了，真空鍍膜技（jì）術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全（quán）球製造業（yè）高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導（dǎo）體集成電路、LED、顯示器