脈衝磁控濺射是一種用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電（diàn）源的方法（fǎ）。脈衝濺射可以有效抑製（zhì）電弧（hú）的產（chǎn）生，消（xiāo）除由此產生的（de）薄（báo）膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的（de）工藝。脈（mò）衝磁控濺射的工作原理一個周期有正電壓

說起單極脈衝磁控濺射電源，可能（néng）有（yǒu）點困惑，但我想說的是，它是對（duì）直流磁控濺射（shè）電源的升級，是不是突（tū）然明白了？脈衝磁控濺射是用矩形波電（diàn）壓脈（mò）衝電源代替傳統直（zhí）流電源的一種方法。脈衝濺射可以有效地（dì）抑製電弧（hú）的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可（kě）以提高濺射的

直流磁控濺（jiàn）射和中頻磁控濺（jiàn）射是常（cháng）見的濺射鍍膜工藝，但這兩種常見的濺射工藝有什麽區（qū）別1.直流磁控濺射濺射與氣壓（yā）的關係（xì）——要在一定範圍（wéi）內提高電離率(在盡可能低的（de）壓力（lì）下保持（chí）較（jiào）高的電離率)，要提（tí）高均勻性，就要在保證（zhèng）膜的純度的同時（shí）增加壓力，而要提高膜