真空鍍膜是指在真空環境下，將某種（zhǒng）金屬或金屬化合物以氣相的方式（shì）堆積（jī）到資料外表（biǎo）（通常是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工（gōng）藝。由於鍍層常為金屬薄（báo）膜（mó），故也稱真空金屬化。廣義的真（zhēn）空鍍膜還包含在（zài）金屬或非金（jīn）屬資料外表真空蒸鍍聚合物等非金屬功用性（xìng）薄膜。在所有

社會不斷發展，技術也是（shì）不斷得在創新。真空鍍膜電源（yuán）的運用範圍是越（yuè）來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表（biǎo）麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全（quán）球製造業高速發展，真空鍍膜技（jì）術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器