離子（zǐ）源電源理想的磁場設計

離子源電源理想的磁場設計體（tǐ）現為：一方麵盡可（kě）能擴大磁場橫向分量的麵積與（yǔ）強度，另一方麵樶大程度的控製和（hé）限製弧斑的（de）運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用的（de）離子鍍弧源應具備（bèi）以（yǐ）下幾點特性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高（gāo）；(4)弧斑細（xì）膩，放電功（gōng）率密度小，大顆粒少（shǎo）；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件輸運的（de）等離（lí）子體通量（liàng）足夠。

真（zhēn）空鍍膜電源技術的離子源電源：提高（gāo）工具、模具的加工質量和使用（yòng）壽命一直是人們不斷探索的課題（tí）。電弧離（lí）子鍍技術是一種（zhǒng）工模具材料表麵改性技術，具有離化率高、可低溫沉積（jī）、膜層質量（liàng）好以及沉積速率快等（děng）其他鍍（dù）膜方式所不具（jù）備的優勢（shì），已在現代工（gōng）具以及各種模具的（de）表麵（miàn）防護取得了理想的應用效果。但是，電（diàn）弧放電導致的大顆粒存在限製了工模具塗層技術（shù）的進一步應用，也成為後期電弧離子鍍技術發展的主要論題。

離子鍍弧源是電弧等（děng）離子體放（fàng）電（diàn）的源頭，是離子鍍技術的關鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧（hú）源，這種弧源中電弧（hú）的行為被陰極（jí）表麵許多快速遊動、高度明（míng）亮（liàng）的（de）陰極斑（bān）點所控製。在發（fā）展和完善電弧離子鍍技術的過程（chéng）中，對電（diàn）弧陰極（jí）斑點（diǎn）運動的（de）有效控製至關重要，因為這決定了電弧放電的穩（wěn）定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質量的改（gǎi）善等諸多關鍵問題的解決。國內外一直致力（lì）於這方麵的工作（zuò），研究熱點主要集（jí）中（zhōng）在磁場（chǎng）控製的弧源設計上。由於真空鍍膜（mó）電源電弧的物理特（tè）性，外加電磁場是控製（zhì）弧斑運動（dòng）的有效方法，目前所有的（de）磁場設計（jì）都是考慮在靶麵形成一定的磁場位（wèi）形，利用銳（ruì）角法則（zé）限製弧斑的運動軌跡，利用橫向分量（liàng）提（tí）高弧斑的運動速度。