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主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(liú)(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點(diǎn):
A 可選(xuǎn)擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最高(gāo)值和最(zuì)低值可獨立設置。
B輸(shū)出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬調製技術,使用(yòng)進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件(jiàn),
體積小、重量輕、功能(néng)全、性能穩定可靠,生產工藝嚴(yán)格完(wán)善。
該係列產品采用先進的DSP控製(zhì)係統,充分(fèn)保證鍍膜工藝的重(chóng)複(fù)性(xìng),
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極(jí)佳(jiā)的負載匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大(dà)範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵(lì)磁多波形電源選擇(zé)多種電壓波(bō)形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場(chǎng)線(xiàn)圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電,提高工(gōng)件膜層質量
真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應(yīng)用在(zài)金屬表麵處理及小功率(lǜ)範圍內的國內市場(chǎng)已經接受,具有廣闊的(de)市場(chǎng)前景。但產(chǎn)品主要局限於1500A以下的中(zhōng)小(xiǎo)功率領域,在國內也隻有少量廠(chǎng)家生產(chǎn),從技術角(jiǎo)度看主要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性(xìng)、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同(tóng)焊接等領域全麵推廣應用(yòng)開關式電源的景況具有較大差距(jù)。
真空鍍膜(mó)是指在高真(zhēn)空的條件下(xià)加熱金屬或非(fēi)金屬材料,使其(qí)蒸發並凝結(jié)於鍍件(金屬、半(bàn)導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法(fǎ)。
真空鍍膜這一(yī)塊是真空應用領域(yù)的(de)重(chóng)要方麵,在真空中以真空技術(shù)為基礎,把物理方法和化學方法利用(yòng)起來,通過(guò)吸收分(fèn)子束、離子束、電子束、等(děng)離(lí)子束、射頻和磁控等一係列高新(xīn)技術,在科學研究(jiū)和實際(jì)生產中,為薄膜(mó)製備提(tí)供一種新(xīn)工藝,簡單的一點來說,要在真空(kōng)中利用合金、金屬或化合物進行蒸(zhēng)發和濺射,並讓被塗(tú)覆(fù)的物體(有基片、稱基板、基體等等(děng))進行凝固並沉積(jī),這種(zhǒng)方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所(suǒ)周知(zhī),在一(yī)些材料的表麵上鍍上一層薄膜,就可以(yǐ)使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學(xué)性(xìng)能並且是嶄新的;