MS係列（liè）勵磁多波形（xíng）電源

主要型號：

主要特點：
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的最高值和最低值（zhí）可獨立設（shè）置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形（xíng）波占（zhàn）空比10%~90%
   E 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶（bǎ）麵（miàn）清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展（zhǎn）功（gōng）能，方便實現（xiàn）自動（dòng）化控製。

主要用途：

MS係列勵磁多波（bō）形電（diàn）源選擇多種電壓波（bō）形輸出（chū）。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性（xìng）可變磁磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變為（wéi）均勻放電，提高工（gōng）件膜層質量

真空鍍膜電源廠（chǎng）家告訴你高頻開（kāi）關電鍍電源應（yīng）用在金屬表麵處理及小功率範圍（wéi）內的（de）國內市場已經接受，具（jù）有廣闊的市（shì）場前景。但產品主要局限於（yú）1500A以下的中小功率領域（yù），在國（guó）內也隻有少量廠家生產，從技術角度看主要限於硬開（kāi）關變換模式和模擬控製方式，可（kě）靠性、EMC及工藝結構等方麵具（jù）有（yǒu）明顯的局限性，同焊接等領域全麵推廣應用（yòng）開關式電源的景況具有較大差（chà）距。

真空鍍（dù）膜是指在高真空的（de）條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。

真空（kōng）鍍膜（mó）這一塊是真空應用領域的重要方麵，在真空中（zhōng）以真空技術為基礎，把物理（lǐ）方法和化學方法利用起來，通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁（cí）控等一係列高新技術，在科學研究和實際生產中，為薄膜製備提供一種新工藝，簡單（dān）的一點來說，要在（zài）真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射，並讓（ràng）被塗覆的物體（有基片、稱基板、基體等等）進（jìn）行凝固並沉積，這種方法稱為真空鍍膜，那真空鍍膜電源就可想（xiǎng）而知，眾所周知，在（zài）一些材料的表麵上鍍上一層薄膜，就可以使這種材料具有多種性能，例如良好的物（wù）理和化學性（xìng）能（néng）並且是嶄新的；