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真（zhēn）空鍍膜電源廠（chǎng）家的在（zài）真空離子鍍膜中，尤其對於多弧離子鍍膜，無論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏電源的好（hǎo）壞對（duì）於成膜質量都起著（zhe）非常關鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍（dù）對膜層質量的要求有相同之處又各有側重。
離子鍍（dù）是（shì）真空室中（zhōng），利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物（wù）質粒子轟擊（jī）作用的同時，將（jiāng）蒸發物或反應物（wù）沉積在基片上（shàng）。離子鍍把 輝光放電現象、 等離子（zǐ）體技術和真（zhēn）空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量（liàng），而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電（diàn）源其優點是薄膜 附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離（lí）子鍍原理，起工作過（guò）程是（shì）：
先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發源與基片之間建立（lì）一個低壓氣體放電的 低溫等（děng）離子區（qū）。基片電極接上5KV直流負高壓（yā），從（cóng）而形成光放電陰極。輝光放電去產生的惰性（xìng）氣體離子進入陰極暗區（qū）被電場加速並轟擊基片（piàn）表麵，對（duì）其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子（zǐ）及氣體（tǐ）離子以較（jiào）高能量轟擊鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。
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