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真空鍍膜電源廠家的在真空離子鍍膜中，尤其對於多弧離子鍍膜，無論是裝飾鍍還是（shì）工具鍍，轟偏電源的好壞（huài）對於成膜質量都起著非（fēi）常關鍵的作用。裝飾（shì）鍍和工具鍍對膜層質量的要求有相同之處又各有側重。
離子鍍是（shì）真空室中，利用氣體放（fàng）電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積（jī）在基片上。離子鍍把（bǎ） 輝光放電現象、 等（děng）離子體技（jì）術和真空蒸發三者有機結（jié）合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且（qiě）還擴大了薄膜的（de）應用範圍。多弧電源（yuán）其優點是薄膜 附著力強，繞射性（xìng）好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離（lí）子鍍原理，起工作過程是（shì）：
先將真（zhēn）空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一（yī）個低壓氣體放電的 低溫等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而（ér）形成光放電陰（yīn）極（jí）。輝光放電去產（chǎn）生的惰性氣體離（lí）子進入陰極（jí）暗區被電場加速並轟擊基片表麵，對（duì）其進行清洗。然後計入鍍膜過程（chéng），加熱使（shǐ）鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體（tǐ）離子及電子發生碰撞，少部分（fèn）產生離（lí）化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊（jī）鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。
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