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真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性（xìng）技術，利用物理或者化學方（fāng）法並吸收一係（xì）列新（xīn）技術而成的（de）工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子（zǐ）鍍三（sān）種。真空鍍膜電源廠家介紹真（zhēn）空鍍（dù）膜有什麽特點：
（1）成膜溫度低。鋼（gāng）鐵行業中（zhōng）的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是（shì）400℃～500℃，化學鍍膜（mó）溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很（hěn）容（róng）易引起被鍍件（jiàn）的變形、變質（zhì），而真空鍍膜的溫度低（dī），可（kě）以降（jiàng）到常（cháng）溫，避免了常規鍍（dù）膜（mó）工藝的弊端。
（2）蒸（zhēng）發源選擇自由度大（dà）。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點（diǎn）限（xiàn）製，可鍍種類眾多的金屬氮（dàn）化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種複合（hé）膜。
（3）不使用有害氣體、液體，對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨（qū）勢下（xià），這點極其可（kě）貴。
（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且（qiě）極薄的鍍膜，鍍（dù）膜純度高，耐蝕性和附著力好（hǎo）。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。
（5）工藝（yì）靈活，改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混（hún）合層。鍍膜厚度易於控製。
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