真空鍍膜技術的專業術語和工藝

1.1真空鍍膜:在真（zhēn）空條件下在基材上製備（bèi）薄膜（mó）層的（de）方法。

1.2底物:膜層受體。

1.3測試基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試的基材。

1.4塗層材料（liào）:用於製作塗層的原材料。

1.5蒸發材料:真空蒸發中用於蒸發的塗（tú）層材料（liào）。

1.6濺射材料:真空濺射中用於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發（fā）速（sù）率:在給定的時間間隔內，物質的蒸發量除以該時間間（jiān）隔

1.9濺射率（lǜ）:在給定時（shí）間間隔內濺射出的材料量除以該時間間隔。

1.10沉積速率:在給定時間間隔內沉積（jī）在襯底上的材料量，除以時間間隔和襯底表（biǎo）麵積。

1.11塗（tú）層角:顆粒入射到基材上（shàng）的（de）方向與被塗層表麵法線之間的（de）夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層材料（liào）蒸發的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時（shí）蒸發（fā）:利用多台蒸發器將各種蒸發物質同時蒸（zhēng）發（fā）到基（jī）材上的真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發（fā）場（chǎng）同時蒸發出來的材（cái）料沉積在基（jī）片上的真空蒸發過程(該（gāi）過程應用於大規模蒸發，以達到理想的膜厚分（fèn）布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材（cái）料通過與氣體反應而達（dá）到理想化學成分（fèn）的真空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真（zhēn）空蒸發蒸發器反應真空蒸發:與蒸發器內各種蒸發（fā）物質發生反應，得（dé）到理（lǐ）想化（huà）學成分膜層材料的真空蒸（zhēng）發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸發所需的熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應渦流加熱使物料蒸（zhēng）發。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟擊（jī）加熱（rè）材料的蒸發。