脈衝磁控濺射電源的功（gōng）能和（hé）工作原理（lǐ）

脈衝磁控濺（jiàn）射是（shì）一種用矩形波電（diàn）壓脈衝（chōng）電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可以（yǐ）有效抑製電弧的產生，消除由此產生的薄（báo）膜缺陷，同（tóng）時可以提（tí）高濺射的沉（chén）積速率，降低沉積溫度等一係列（liè）顯著優點，是濺射絕緣材（cái）料（liào）沉積的工藝。

脈衝（chōng）磁控濺射的工作原理

一（yī）個周期有正電壓和負電壓（yā）兩（liǎng）個階段，在負電壓（yā）段，電源對靶材的（de）濺射起作用，正（zhèng）電壓段引入電子和靶（bǎ）材表麵（miàn）積累的正電荷，使表麵清潔，露出金屬表麵。

施加在靶材上的脈衝電壓與普通磁控濺射相同！對於400~500V，電源頻率在（zài）10~350KHz，在保證放電穩定的前提下，應盡可能取低（dī）的頻率#因為等離（lí）子體中的電子相對於離子具有較高的遷移率，所以正電（diàn）壓值（zhí）隻需要負電壓的10%-20%，就（jiù）可以（yǐ）有效地中（zhōng）和積累在靶表麵上的正電荷。占空比的選擇確保了濺射過（guò）程中靶表麵上的累（lèi）積電荷可以在正電壓階（jiē）段完全中（zhōng）和，從而盡可能提高占空比，實現電（diàn）源的大效率（lǜ）。