脈衝（chōng）磁控（kòng）濺（jiàn）射電源簡介

說起（qǐ）單（dān）極脈衝磁控濺射電源，可能有點困惑，但我想說的是，它是（shì）對（duì）直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩形波電壓脈衝（chōng）電源代替傳統直流電（diàn）源的一種方法（fǎ）。脈衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的精選工藝。一個周期有正電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段中，電源作用於（yú）靶材的濺射，正電壓段將電子積累的正電荷（hé）引入靶材表麵，使表麵清潔，露出金屬表麵。施加在靶材（cái）上的脈衝電（diàn）壓與一般磁控濺射的脈衝電壓相同！對（duì）於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證穩定放電的（de）前（qián）提下，應盡（jìn）可（kě）能低地取頻率#因為等離子體（tǐ）中的電子相對（duì）於離子具有更高的遷移率，所以正電（diàn）壓值隻需要是負電壓的10%到20%，就可以有效地（dì）中和積聚在靶表麵的正電荷。占（zhàn）空比的選擇確保了濺射過程中靶（bǎ）表麵積累的電荷在正電壓（yā）階段可以完全被中和，從而盡可能地（dì）提高占空比，以實現電源的較大效率。

單極脈衝磁控濺（jiàn）射電源的優（yōu）點是，它可以有效（xiào）地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷（xiàn），同時可以提高（gāo）濺射的沉積速率，降低沉積溫度等（děng）一係列顯（xiǎn）著優（yōu）點，是沉積（jī）濺射絕緣材料的較佳工藝