MSD係列直流磁控濺射（shè）電源

主要型號：

主要特點：
   A 采（cǎi）用先進的電流型開關電（diàn）源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高（gāo）了抑製打火及重啟（qǐ）速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率（lǜ）模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模（mó）式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想（xiǎng）的電（diàn）壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁（cí）控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口（kǒu）大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完（wán）善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗（kàng）短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保（bǎo）證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便（biàn）維護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自（zì）動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子（zǐ）科（kē）技（jì）快速發展的時代中，電源（yuán）的應用可以說是（shì）隨處可見的，或許正是（shì）因為電源的普遍應用，所以電（diàn）源（yuán）的類型也隨之而多（duō）樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這（zhè）種電源與普通的電源有一（yī）定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同（tóng）。

     真空鍍膜機光學鍍膜加（jiā）工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同（tóng）傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射（shè）掉，在（zài）光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現（xiàn）代光學透鏡通常都（dōu）鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可（kě）使反射減（jiǎn）少至（zhì）1.5%，多層（céng）增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線（xiàn）透穿率可（kě）達95%。鍍了單層增透（tòu）膜的鏡片通常是藍紫色或（huò）是紅色，鍍（dù）多層增透膜的鏡片則呈淡綠（lǜ）色或暗紫色（sè）。

真空鍍膜機（jī）增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分（fèn）界麵（miàn）上，由於邊界條（tiáo）件的不同（tóng），改變了其能量的分布。對於單（dān）層薄膜來說，當增透（tòu）膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇（qí）數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是介質1、2的折（shé）射率），才可以使入射光全部透過（guò）介質。一（yī）般光學透鏡都是在空氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到（dào）100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度（dù）=（2k+1)倍四分之一（yī）個波長。單層膜隻對（duì）某一特定波長的（de）電磁波增透（tòu），為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人（rén）們利用鍍多層膜來實現。

人（rén）們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透（tòu）膜的（de）材料；同時也（yě）掌握了不少（shǎo）先進的鍍膜技術，因此增透（tòu）膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索（suǒ）等各行各業，為人類科技進步作出了重（chóng）大（dà）貢獻。