MSD係列直（zhí）流磁控濺射電（diàn）源

主（zhǔ）要型號：

主要特（tè）點：
   A 采用先進的電流型開關電（diàn）源（yuán）技術，減小輸（shū）出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式（shì）相對於傳統的恒流（liú）模式，
更能保證鍍膜工藝（yì）的重複性。
  C 具有理想的電（diàn）壓陡降特性，自（zì）動識別偽打（dǎ）火現象，
充（chōng）分滿足磁控濺射工藝（yì）過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇（zé）手動控製/模擬量（liàng）接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進（jìn）的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功能全、性（xìng）能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵（miàn）清洗工（gōng）藝的穩定性，又（yòu）提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大（dà）範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。

主要用（yòng）途：

直流磁控濺（jiàn）射用於鍍製各種金屬（shǔ）

在電子科（kē）技（jì）快速發展的時代中，電源的應（yīng）用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型（xíng）也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源（yuán）類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀（guān）就有（yǒu）明顯的不同。

     真空鍍（dù）膜機光學鍍膜加工上有什（shí）麽要（yào）注意的嗎？當光（guāng）線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約（yuē）有5%會被（bèi）反射掉，在光學瞄準鏡中（zhōng）有（yǒu）許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損（sǔn）失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層（céng）或多（duō）層氟（fú）化鎂的增透膜，單（dān）層增（zēng）透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射（shè）降低至0.25%，所以整個瞄準鏡（jìng）如果加（jiā）以適當鍍（dù）膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片（piàn）通常是藍紫（zǐ）色或是紅色，鍍多（duō）層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色（sè）。

真空鍍膜機增透膜增加（jiā）透射光強（qiáng）度的（de）實質是作為電磁波的光（guāng）波在傳播的（de）過程（chéng）中，在不同介質的分界（jiè）麵上，由於邊界條（tiáo）件的（de）不同，改變了其能量的分布（bù）。對（duì）於（yú）單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波（bō）長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是（shì）介質1、2的折射率），才可以（yǐ）使入射光全部透過介質。一般光學透鏡（jìng）都是（shì）在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右（yòu）的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透（tòu）效（xiào）果，可使n1=1.23，或（huò）接（jiē）近1.23；還要使增透薄膜（mó）的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特（tè）定波（bō）長的電磁波增透，為使在更大（dà）範圍內和更多波長實現增透，人們利（lì）用（yòng）鍍多層膜（mó）來實現。

人們對增（zēng）透膜的利用有了（le）很多（duō）的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料（liào）；同時也掌握（wò）了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等（děng）各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。