北京HVP高壓窄脈衝電源

主（zhǔ）要型號：

主要（yào）特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理（lǐ）想的電壓陡降（jiàng）特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍（dù）件的成品率、表麵光潔度和膜層結合（hé）力。
   B 電壓脈（mò）衝輸出峰值（zhí）可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的（de）重複（fù）性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光（guāng）放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主（zhǔ）要用途：

高壓窄脈衝電源適用於（yú）特殊鍍膜工藝時被（bèi）鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離（lí）子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也（yě）是不斷得在創（chuàng）新。真空鍍膜電源的運用範圍是（shì）越來越廣泛了，真（zhēn）空鍍膜技術是一種新（xīn）穎的材料合成與加工（gōng）的新技術（shù），是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球（qiú）製造（zào）業高速發展，真空鍍膜（mó）技術應用越來（lái）越廣泛。從半導（dǎo）體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的（de）發展來看，對真空鍍膜設備（bèi）、技術材料需求都（dōu）在不斷（duàn）增加（jiā），包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充（chōng）分展示和應用（yòng）各種光學特性的光學膜；計（jì）算機顯示用的（de）感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜（mó）；建築、汽車行業上應用的（de）玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的（de）功能（néng）膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料（liào）研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國（guó）內真空鍍膜設備製造企（qǐ）業發展（zhǎn）建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設（shè）備製造企業應（yīng）著力（lì）進行產業結（jié）構優化升級，重質量、重（chóng）服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢（shì），堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走（zǒu）出一條科技含（hán）量（liàng）高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少（shǎo）、人力資源優勢得到充分發（fā）揮（huī）的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業（yè）先（xiān）進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使（shǐ）得新品能迅速推向市場（chǎng）。

真（zhēn）空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應（yīng）用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以（yǐ）信息化融合為重（chóng）心，依靠（kào）技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍（dù）膜設備行（háng）業等製造業價值鏈高端挺進。