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真空鍍膜電源廠(chǎng)家
江蘇(sū)HVP高壓窄脈衝(chōng)電源

江蘇HVP高壓窄脈衝電源

  • 所屬分類:江蘇(sū)HVP高壓窄脈衝電源
  • 瀏覽次數:次(cì)
  • 發布日期:2020-10-21 09:47:20
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術(shù)參數

主要型號:

型號

功率(kW)

工作峰值(zhí)電(diàn)壓(V)

最大工作電流(A)

最大峰值電(A)

主機外形尺寸

冷卻方式

HVP-2500V

2.5

2.5kV

2.5A

50

482*175*550

(WHD)[4U]


風(fēng)冷

HVP-3500V

2.5

3.5kV

1.5A

30


主要特點:
   A具有行動穩定電壓功能,具有理想的電壓陡降特性,
有效抑製(zhì)工件表麵打火,明(míng)顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓(yā)脈衝輸出(chū)峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz,占空比1%~5%(最 大脈衝(chōng)寬(kuān)度25uS)。
   D 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接(jiē)口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用(yòng)進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定(dìng)可(kě)靠(kào),生產工藝嚴格完(wán)善。
該係列產品采用先進(jìn)的DSP控製(zhì)係統(tǒng),充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有(yǒu)抑製靶材弧光放電及抗短路功能(néng),
具有極佳的負載匹配能力,既(jì)保證了靶麵清洗工(gōng)藝的(de)穩定(dìng)性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參(cān)數均可大範圍連續調節;
方便維(wéi)護(hù),可靠性高;
PLC接口和RS485接口(kǒu)擴展功能,方便實現(xiàn)自(zì)動化控製。


主要用途:

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜(mó)工藝時被鍍工(gōng)件表麵的輝(huī)光清洗(xǐ)、鍍膜前的離(lí)子轟擊和鍍膜時的離子加速等。


社會不斷發展,技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了(le),真空鍍膜技術是一種新穎的(de)材料合成與加工的新技術,是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛(fàn)。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工(gōng)、製藥(yào)等行業的發展來看,對真空鍍膜設備、技術材料需(xū)求都在不斷增加(jiā),包(bāo)括製造大規(guī)模(mó)集成電路的電學膜;數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲(chǔ)存膜;充分展示和應用各種光學(xué)特性的光學膜;計算機(jī)顯示用的感光膜;TFT、PDP平麵(miàn)顯示器上的導電膜和增透膜;建築、汽車行業上應(yīng)用的玻璃鍍(dù)膜和裝飾膜(mó);包裝領域用防護膜、阻隔膜;裝(zhuāng)飾材料上具體各種功能裝飾效果的(de)功能膜;工(gōng)、模具表麵上應用的耐磨超硬膜;納米材(cái)料研究方麵的各種功(gōng)能性(xìng)薄膜等。對於國內真空(kōng)鍍膜設備製造(zào)企業發展建(jiàn)議如下:

真空鍍(dù)膜電源

1、目前實體經濟走勢整體疲(pí)弱,複蘇充(chōng)滿不確定性,經濟處於繼續探底過程,真空鍍膜設備製造企業應著力進行(háng)產業結構優化升級,重(chóng)質量、重服務明確市場定位,大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝,提高產(chǎn)品質量和服務水(shuǐ)平。


2、依托信息化發展趨勢,堅持“以信息化帶(dài)動工業化,以工業化促進信息化”,走出一條科技(jì)含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力(lì)資源優勢得到充分發揮(huī)的新型工業化路子。


3、依托政府支持,大力加強與擁有行(háng)業先進技術和工藝(yì)水平的科研院所、大型企業、高(gāo)校合作,使得新品能迅速推(tuī)向市場。


真空鍍膜技術及設備(bèi)擁有(yǒu)十分廣闊(kuò)的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重(chóng)心,依靠技術進步,更加注重(chóng)技術能力積累,製造偏向(xiàng)服務型,向世界真空鍍膜設備行業等製造業(yè)價值鏈高端挺進。


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