江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主（zhǔ）要型號（hào）：

主要特點：
   A 明顯（xiǎn）改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的打火（huǒ）次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具（jù）有理想的電（diàn）壓陡降特性，
充分滿（mǎn）足磁控濺射工（gōng）藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻（pín）率40kHz，占空比（bǐ）20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采（cǎi）用先（xiān）進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係列（liè）產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重（chóng）複（fù）性，
並（bìng）且具有抑製（zhì）靶材（cái）弧光放電及抗（kàng）短路功（gōng）能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既（jì）保證了靶麵清洗工藝的穩定（dìng）性（xìng），又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展（zhǎn）功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射適用於金屬、合金及石墨等（děng）靶材鍍製（zhì）金屬膜、碳膜和部（bù）分氧（yǎng）化物、氮化物及碳化物（wù）膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清（qīng）洗液，並（bìng）采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後（hòu），放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清（qīng）洗工（gōng）序後即進行減反射膜（mó）的鍍膜。

真（zhēn）空鍍膜電源為什麽在（zài）現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的（de）效果（guǒ）？

概念的區別：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下加熱（rè）金屬或非金屬材（cái）料（liào），使其蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的（de）一種（zhǒng）方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在（zài）光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增（zēng）加（jiā）光的（de）反射（shè）、分（fèn）束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍（dù）膜的一種（zhǒng）)和化（huà）學鍍膜。