上海HVP高壓窄脈衝電（diàn）源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A具有行動穩定電（diàn）壓功（gōng）能，具（jù）有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力（lì）。
   B 電壓脈（mò）衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最（zuì） 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製（zhì）/模（mó）擬（nǐ）量接（jiē）口控製，可（kě）選（xuǎn）配RS485通訊接口。
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完（wán）善。
該係列（liè）產品采用先（xiān）進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有（yǒu）抑製靶材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝（yì）的穩定性，又提（tí）高了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用（yòng）途：

高（gāo）壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗（xǐ）、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是（shì）不斷得在創新。真空鍍膜電源的（de）運用範圍是越來越廣（guǎng）泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材（cái）料合成（chéng）與加工的新技術（shù），是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越（yuè）來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽（yáng）能（néng）光伏、化工、製藥等（děng）行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁（cí）化的數據（jù）記錄儲存膜；充分展示和應用各（gè）種光學特性的光學膜；計（jì）算（suàn）機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜（mó）和增透（tòu）膜；建築、汽車行業上應用的玻璃（lí）鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵（miàn）上應用的（de）耐磨（mó）超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空（kōng）鍍膜設備製造企業發（fā）展建議（yì）如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力（lì）進行產業結（jié）構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品（pǐn）新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發（fā）展趨勢，堅持“以信息化帶（dài）動工業化，以工業化（huà）促進信息化”，走出一（yī）條科技含量高、經濟效益好、資源（yuán）消耗低、環（huán）境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路（lù）子。

3、依托政府支（zhī）持，大力加強與擁（yōng）有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高（gāo）校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜（mó）技術及設備擁有十（shí）分廣闊的應用領域和發（fā）展前景。未來真（zhēn）空鍍膜（mó）設備行業等製（zhì）造業（yè）將（jiāng）以信息化融合為重心，依靠技術（shù）進步，更加注重技術能力積累，製造偏（piān）向服務型，向世界（jiè）真空鍍膜（mó）設（shè）備行業等製造業價值鏈高端挺進。