上（shàng）海MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明（míng）顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的（de）打火次數，提高膜層質量。
   B 具有（yǒu）平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係（xì）統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功（gōng）能，方便實現自動化控製（zhì）。

主要（yào）用途：

單極脈衝磁控濺射適（shì）用於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬（shǔ）膜（mó）、碳膜和部分氧化物、氮化（huà）物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必（bì）須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子（zǐ）級。在（zài）清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此（cǐ）過程中要（yào）特別注意避免空（kōng）氣中的灰塵和垃（lā）圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後的清（qīng）洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表（biǎo）麵。最後的清洗是在（zài）真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表（biǎo）麵（例如用氬離子），完成此道清洗工（gōng）序後即（jí）進行減反射膜的鍍（dù）膜。

真空鍍膜（mó）電（diàn）源為什麽在現在會應用那麽多呢，有（yǒu）哪些明顯的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在（zài）高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍（dù）件（jiàn）（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例（lì）如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是（shì）指在光學零（líng）件表麵上鍍上（shàng）一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程（chéng）。在光學（xué）零件（jiàn）表麵鍍（dù）膜的目的是為了達到減少或增加光的反射（shè）、分束、分（fèn）色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學（xué）鍍膜。