武漢HVP高壓窄（zhǎi）脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，
有效抑（yì）製（zhì）工件（jiàn）表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵（miàn）光潔度和膜層結合力。
   B 電（diàn）壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接（jiē）口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重（chóng）量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係（xì）列（liè）產品采用（yòng）先（xiān）進的DSP控製係統，充分（fèn）保（bǎo）證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能（néng），
具有極（jí）佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝（yì）的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝（yì）時被鍍工（gōng）件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊（jī）和鍍膜時的離子加速等。

社（shè）會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源（yuán）的（de）運用範圍（wéi）是越來越廣泛了，真空（kōng）鍍（dù）膜技（jì）術是（shì）一種新穎（yǐng）的（de）材料合成與加工的新（xīn）技術，是表（biǎo）麵（miàn）工程技術領域的重要組成部分。隨著（zhe）全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應（yīng）用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸（mō）屏、太陽能光伏、化工、製（zhì）藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設（shè）備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式（shì）縱向與（yǔ）橫向均可磁化（huà）的數據記錄儲存膜；充分（fèn）展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯（xiǎn）示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍（dù）膜和裝飾膜；包裝領（lǐng）域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各（gè）種功（gōng）能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超（chāo）硬膜；納米材料研（yán）究方麵（miàn）的各種功能性薄膜等。對於（yú）國內（nèi）真空鍍（dù）膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體（tǐ）經濟（jì）走勢整體疲弱，複蘇充滿不確（què）定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構（gòu）優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有（yǒu）自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信（xìn）息化發展趨勢，堅持（chí）“以信息（xī）化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環（huán）境（jìng）汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平（píng）的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品（pǐn）能迅速推向市場。

真空鍍膜（mó）技術及設備擁有十分廣（guǎng）闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設（shè）備行業等製造業將以信息化（huà）融合為重心（xīn），依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業（yè）價值鏈高端挺（tǐng）進。