浙江HVP高壓窄脈衝電源

主（zhǔ）要型號：

主要特點：
   A具有（yǒu）行動穩定（dìng）電壓功能，具有（yǒu）理想的（de）電壓陡降特性，
有效抑製（zhì）工件（jiàn）表麵打火，明顯提高（gāo）鍍件的成品率（lǜ）、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻（pín）率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝（chōng）寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件（jiàn），
體積小（xiǎo）、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範（fàn）圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光（guāng）清洗、鍍膜（mó）前的離子（zǐ）轟擊和（hé）鍍膜時的離子加速等。

社會不斷（duàn）發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源（yuán）的運用範圍是越來越廣（guǎng）泛了，真空鍍膜技術是一種（zhǒng）新穎的材（cái）料合成與加工的（de）新技術，是表麵工程技術領域的重（chóng）要組成部分。隨著全球（qiú）製造業高速（sù）發展，真空鍍膜技術應（yīng）用越來越廣泛。從半導體（tǐ）集成電路、LED、顯示器（qì）、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行（háng）業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加（jiā），包括製造大規（guī）模集（jí）成（chéng）電（diàn）路的電學膜；數字式縱向與橫向均（jun1）可磁化的數（shù）據記錄（lù）儲存膜；充分展示和應用（yòng）各種光學特性的光（guāng）學膜；計算機顯示用（yòng）的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築（zhù）、汽車行業（yè）上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護（hù）膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾（shì）效果的功能膜；工、模具表麵上應用（yòng）的耐磨超硬（yìng）膜（mó）；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等（děng）。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處（chù）於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業（yè）應著力進（jìn）行產業結構優化（huà）升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主（zhǔ）知識產權的新產品新工藝，提高產（chǎn）品質量和服務水平。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資（zī）源消耗低（dī）、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依（yī）托政府支持（chí），大力加強與擁（yōng）有行業先進技術和工藝水平的科（kē）研院所、大型企（qǐ）業、高校合作，使得（dé）新（xīn）品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁（yōng）有十分廣（guǎng）闊的應用（yòng）領域（yù）和發展前景。未來（lái）真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心（xīn），依（yī）靠技術進步，更加注重技術能力積累，製（zhì）造偏向（xiàng）服務型，向世界真空鍍膜設備行（háng）業等製造業價值鏈（liàn）高端挺進。