主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸(cùn) | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三(sān)種波形(xíng),波形的最高值和最低值可獨立設置(zhì)。
B輸出電壓範(fàn)圍:-40V~+40V。
C波形頻率(lǜ)範圍(wéi):0.1-50Hz
D三角波、矩(jǔ)形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選(xuǎn)配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為(wéi)功率開關器件,
體(tǐ)積小、重量輕、功能全(quán)、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑(yì)製靶材弧光(guāng)放電(diàn)及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證(zhèng)了靶(bǎ)麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數(shù)均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動(dòng)化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形(xíng)電源選擇多種電壓波(bō)形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可(kě)變磁磁場(chǎng),使多弧輝光由原來的(de)集中放電變為(wéi)均勻放電,提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金(jīn)屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣(guǎng)闊(kuò)的市場前景。但產品主要(yào)局限於1500A以下的中小(xiǎo)功率領域,在國內也隻有少(shǎo)量廠(chǎng)家生產,從技術(shù)角度看主要限於硬開關變換模式和模(mó)擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結(jié)構等方麵具有明顯的局限(xiàn)性,同焊接等領域全麵推廣應用開關(guān)式電(diàn)源的景(jǐng)況具有(yǒu)較(jiào)大差距。
真空鍍(dù)膜是指在高真空的條件下加(jiā)熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空(kōng)應用領域的(de)重要方麵,在真空中以真空技術為基礎,把物理方法(fǎ)和化學(xué)方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究(jiū)和實際生產中,為(wéi)薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸(zhēng)發(fā)和濺射,並讓(ràng)被塗覆的物體(有基片、稱基(jī)板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為(wéi)真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所(suǒ)周知,在一些材(cái)料的表麵上鍍上一(yī)層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新(xīn)的;
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