主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作(zuò)電壓(V) | 最大峰值電(diàn)流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主(zhǔ)要特點(diǎn):
A 可選擇三(sān)角波、矩形波(bō)、正弦波(bō)三種波形,波形的最(zuì)高值和(hé)最低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍(wéi):-40V~+40V。
C波形頻率(lǜ)範圍(wéi):0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控(kòng)製,可(kě)選配RS485通訊接口。
采用先(xiān)進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠(kào),生產工藝嚴格完善。
該係列(liè)產品采(cǎi)用先進的DSP控製係統,充分保(bǎo)證鍍(dù)膜工藝的重複性,
並且具有抑(yì)製靶材弧光放電及(jí)抗短(duǎn)路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清(qīng)洗工藝(yì)的穩定性,又提高了(le)靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護(hù),可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方(fāng)便實(shí)現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶(bǎ)外圍磁場線圈,產生(shēng)周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電,提高工(gōng)件膜層質(zhì)量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用(yòng)在金屬表麵處理及小功率範圍內的國(guó)內市(shì)場已經接受,具有廣闊的市場前(qián)景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域,在國內也(yě)隻有少(shǎo)量廠家生產(chǎn),從技術角度看主要限於硬開關變(biàn)換模式和模擬(nǐ)控製方式,可(kě)靠性(xìng)、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接(jiē)等領域全麵(miàn)推廣應用開關式電源的景況具有較大(dà)差距(jù)。
真空(kōng)鍍膜是(shì)指在(zài)高真空的條件下加熱金屬(shǔ)或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金(jīn)屬、半(bàn)導體(tǐ)或絕緣體(tǐ))表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜(mó)這一塊是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空(kōng)技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束(shù)、射頻和磁控(kòng)等一(yī)係列高新技術,在科學研究(jiū)和實際生產中,為薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中(zhōng)利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並(bìng)讓被塗覆的(de)物體(有基片、稱(chēng)基板、基體(tǐ)等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真(zhēn)空鍍膜,那真(zhēn)空鍍膜電源(yuán)就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一(yī)層薄膜,就可以使這種材料(liào)具有多(duō)種性能(néng),例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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