188-0259-9203(微(wēi)信同號)
841426141@qq.com
主要型號(hào):
型號 | 功率(W) | 工(gōng)作電(diàn)壓(yā)(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最高值和最低值可(kě)獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比(bǐ)10%~90%
E 可選擇手動控製/模(mó)擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬(kuān)調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功(gōng)能全、性能穩定可靠,生產工(gōng)藝(yì)嚴格完善。
該係列產品采用先(xiān)進的DSP控製係統,充分保證鍍(dù)膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧(hú)光放電及抗短路(lù)功能,
具(jù)有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定(dìng)性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可(kě)大範圍連續調節;
方(fāng)便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵(lì)磁多(duō)波形(xíng)電源選擇多種電壓波形輸出(chū)。通過驅(qū)動多弧靶外圍磁場線圈,產生(shēng)周期性可變磁磁場,使多弧(hú)輝光由原來的集中放電(diàn)變為均勻放電,提高工件膜層(céng)質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電(diàn)鍍電源應用在金屬表(biǎo)麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產(chǎn),從技術角度看(kàn)主要限於硬開關變(biàn)換模式和模(mó)擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等(děng)領域全麵推廣(guǎng)應用開關式(shì)電源的景況具有較大差距。
真空鍍(dù)膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這(zhè)一塊是真(zhēn)空(kōng)應用領域的重要方麵(miàn),在真空中以真空技術為基礎,把物理方(fāng)法和化學方法利用起來(lái),通過吸收分子束、離子束、電子束(shù)、等離子束、射頻和磁控等一係列高新(xīn)技術,在科學研究和實際(jì)生產中,為薄膜(mó)製備提供一種新工藝,簡單的一點(diǎn)來說,要在(zài)真空中利(lì)用合金、金屬或(huò)化(huà)合物進行蒸發和濺射,並讓被(bèi)塗覆的物體(tǐ)(有基片、稱基板、基(jī)體等等(děng))進(jìn)行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍(dù)膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所周(zhōu)知,在一些材料的(de)表麵(miàn)上鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有多種性(xìng)能,例如良好(hǎo)的物理和(hé)化學性能並(bìng)且是嶄新的;
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