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真空鍍膜(mó)電源廠家
武漢MS係列勵磁(cí)多波形電(diàn)源

武漢(hàn)MS係列勵磁多(duō)波形電(diàn)源

  • 所屬分類:武漢MS係列勵磁多波(bō)形電源
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-10-21 09:41:33
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

主要型號:


型號

功率(W)

工作電(diàn)壓(V)

最大峰值電流(A)

外形尺寸

冷卻(què)方式

MS-10A

400W

-40~+40

-10~+10

482*175*550

(WHD)[4U]


風冷

MS-20A

800W

-40~+40

-20~+20

MS-30A

1200W

-40~+40

-30~+30


主要特點:
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最高(gāo)值和最低值可獨立設置。
   B輸出電(diàn)壓範圍:-40V~+40V。
   C波形(xíng)頻率範圍:0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占(zhàn)空比10%~90%
   E 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量(liàng)接口控製(zhì),可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率(lǜ)開關器件(jiàn),
體積小、重量(liàng)輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品(pǐn)采用先進的DSP控製(zhì)係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及(jí)抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高(gāo)了靶麵清洗速度;
主要參數均(jun1)可大範(fàn)圍(wéi)連續調節(jiē);
方便維護,可靠性高;
PLC接口(kǒu)和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實現(xiàn)自動(dòng)化控製。


主要用途(tú):

MS係列勵磁多波(bō)形電源選擇(zé)多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶(bǎ)外圍磁場線圈(quān),產生周期(qī)性可變磁磁場,使多(duō)弧輝光由原來的集中放電變為(wéi)均勻放電,提(tí)高工件膜層質量

勵磁多波形電源

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電(diàn)鍍(dù)電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品(pǐn)主要局限於1500A以下的中(zhōng)小功率領域,在(zài)國內也隻有少量廠家生產,從技術角度看主要限於硬(yìng)開(kāi)關變換模式和模擬控製方式,可靠(kào)性、EMC及工(gōng)藝結構等(děng)方麵具有明顯的局限性,同(tóng)焊接(jiē)等領域全麵推廣(guǎng)應用開關式電源的景況具有較(jiào)大差距。


真空鍍膜是指在(zài)高真空的條(tiáo)件下加熱(rè)金(jīn)屬或非金屬材料,使(shǐ)其蒸(zhēng)發並凝結於鍍件(金屬(shǔ)、半導體或(huò)絕緣體)表麵而(ér)形成薄膜的一種方法。


真空鍍膜這一塊(kuài)是真空(kōng)應用領域的重要方麵,在(zài)真空中以真(zhēn)空技術為基礎,把(bǎ)物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列(liè)高新技術,在科學研究(jiū)和(hé)實際生產中,為(wéi)薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要(yào)在真空中利(lì)用合金、金屬或化合(hé)物進行蒸發和(hé)濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基(jī)體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真(zhēn)空鍍膜電源就可(kě)想而知,眾所周知,在一(yī)些材料的表麵上(shàng)鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例如良(liáng)好的物理(lǐ)和化學性(xìng)能並且是嶄新的;


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