真空鍍膜電源廠家簡（jiǎn）述離子鍍的原理

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍（dù）種類很多，蒸發遠（yuǎn）加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加（jiā）熱、高頻感應加熱等（děng）。

真空鍍膜電源廠家（jiā）

離（lí）子（zǐ）鍍是真（zhēn）空室中，利用（yòng）氣體放電（diàn）或被蒸發物質部分離化（huà），在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用（yòng）的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不（bú）僅能明顯（xiǎn）地改進（jìn）了膜質量，而且還擴大了（le）薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣（guǎng）泛等（děng）。真空鍍膜電源廠家首次提出（chū）離子鍍原理，起工作過程（chéng）是：

先將真空（kōng）室（shì）抽至4×10（-3）帕以上（shàng）的真空（kōng）度，再接通 高壓電源，在蒸發源與（yǔ）基片之間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基（jī）片電極接上5KV直流負（fù）高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟（hōng）擊基片表麵，對其（qí）進行（háng）清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子（zǐ）區（qū），與惰性氣體離（lí）子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化（huà）後的（de）例子及氣體離子（zǐ）以較高能量轟擊鍍（dù）層表麵，致使膜層質量得到改善（shàn）。

然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍（dù）采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡（jiǎn）單的說，多弧離子鍍的原理（lǐ）就（jiù）是把陰極靶作（zuò）為蒸發源，通過靶（bǎ）與（yǔ）陽極（jí）殼（ké）體之（zhī）間的弧光（guāng）放電，使靶材蒸發，從而在（zài）空間中形成等離子體，對基體進行沉積。