MS係列勵磁（cí）多波形電源

主（zhǔ）要型（xíng）號：

主要特點（diǎn）：
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的（de）蕞高值和（hé）蕞低值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角（jiǎo）波、矩形波（bō）占空比10%~90%
   E 可選（xuǎn）擇手動控（kòng）製/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調（diào）製技（jì）術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率（lǜ）開關器件（jiàn），
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格完（wán）善。
該係列產品采用（yòng）先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的（de）重（chóng）複性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了（le）靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維（wéi）護，可靠（kào）性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控製。

主要用途：

MS係列勵（lì）磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性可變磁磁場，使（shǐ）多弧輝（huī）光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質量

在真空（kōng）鍍膜時（shí），使用直流負偏壓（yā）電源，其中運用直流電源，這個電源的電（diàn）子方向一直統一，會導致（zhì）單一品種電荷堆積過高與（yǔ）控製源中和。也就是說（shuō）用來提供動力的正負極被中和了。然後磁（cí）控濺射將不再持續（xù）。所以選用脈衝電源（yuán）。真空鍍膜一種由物理辦法發生薄膜資料的技能。在真空室內資料的原子從加熱源離析出來打到被（bèi）鍍物體的外表上。此項技能樶先用於出產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。後延伸到其他功用薄膜，唱（chàng）片鍍（dù）鋁、裝修鍍膜和資料外表改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬（yìng）性。真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的（de）表麵上。

真空鍍膜電源：

(1)在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空（kōng）鍍膜（mó）機時，必須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

(2)在離子轟擊（jī）和蒸發時，應特別注意高壓電線接（jiē）頭（tóu），不得觸動，以防觸電。

(3)在用電子（zǐ）槍（qiāng）鍍膜時，應在鍾罩外圍上鋁板。觀（guān）察窗的玻璃樶（zuī）好用鉛玻璃，觀察（chá）時應戴上鉛玻璃（lí）眼鏡，以防X射線侵害人體。

(4)鍍（dù）製多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排（pái）除有害粉（fěn）塵。

(5)易燃有毒物品要（yào）妥善保管，以防失火中毒。

(6)酸洗夾（jiá）具應在通風裝置內進行，並要戴橡皮手套。

(7)把零件放入酸洗或堿洗槽（cáo）中時，應輕拿（ná）輕（qīng）放，不得碰撞及濺出。平時酸洗（xǐ）槽盆（pén）應加蓋。

(8)工作（zuò）完畢應斷電、斷水。