上海MSD係列直流磁控濺射（shè）電源（yuán）

主要型號：

主要特（tè）點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速（sù）度，應用在鋁（lǚ）靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模（mó）式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能（néng）保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具（jù）有（yǒu）理想的電（diàn）壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程（chéng）的連續性。
  D 主要（yào）參數可大範（fàn）圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模（mó）塊
采用先（xiān）進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶（bǎ）材弧光（guāng）放電及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。

主要用（yòng）途（tú）：

直（zhí）流磁控（kòng）濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源（yuán）的應用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真（zhēn）空（kōng）鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源（yuán）有一定的區別，單是電源的外觀就有（yǒu）明顯的不同。

     真空（kōng）鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同（tóng）傳遞（dì）物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在（zài）光學（xué）瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射（shè）減少至1.5%，多層增透膜（mó）則可讓反射降低（dī）至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增（zēng）透膜的鏡片則呈淡綠（lǜ）色或暗紫色。

真（zhēn）空鍍膜機增透（tòu）膜增（zēng）加透射光強度的實質（zhì）是（shì）作為電磁（cí）波的光波在傳（chuán）播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界條（tiáo）件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜（mó）兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透（tòu）過介質。一般光學透鏡都是在空氣中（zhōng）使用，對於一般折射率（lǜ）在1.5左右的光學（xué）玻（bō）璃，為（wéi）使單層膜達到100%的增透效果（guǒ），可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增（zēng）透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一（yī）特（tè）定波長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人（rén）們（men）利用鍍多層膜來實（shí）現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不（bú）少（shǎo）可以作為增透膜的材料；同時（shí）也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫（yī）學、軍事、太空探（tàn）索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。