浙江MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸（shū）出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度（dù），應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率（lǜ）模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識（shí）別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過（guò）程的連續性。
  D 主要參數可大（dà）範圍（wéi）調（diào）節
  E 可選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口（kǒu）。
  F 采用進口大（dà）功率IGBT&MOS模塊
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要（yào）參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實（shí）現自動（dòng）化控製。

主要用途：

直流磁控（kòng）濺射用於鍍製各種金屬（shǔ）

在電子科技快速（sù）發展的時代（dài）中，電源的應用可以說是隨處可見的，或許（xǔ）正是因為電源的普遍應用，所（suǒ）以電源的類型也隨（suí）之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型（xíng）中（zhōng）的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什（shí）麽（me）要注意的嗎？當光線（xiàn）進（jìn）入不同傳遞物質時（如（rú）由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在（zài）光學瞄準鏡中（zhōng）有（yǒu）許多透（tòu）鏡和（hé）折（shé）射鏡，整（zhěng）個加起來可以讓入射光線損失達（dá）30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層（céng）增透膜（mó）則可（kě）讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜（mó），光線透穿率可達95%。鍍了（le）單層（céng）增透（tòu）膜的鏡片通（tōng）常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍（dù）膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳（chuán）播的過（guò）程中，在不同介質的分界麵上，由（yóu）於邊界條件的不同，改變了其能（néng）量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的（de）奇數倍且薄膜的（de）折射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介（jiè）質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還（hái）要使增透薄膜的厚度（dù）=（2k+1)倍四分之一（yī）個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為（wéi）使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多（duō）層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發（fā）現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉（shè）及醫學、軍事、太空探索等各（gè）行各業，為人類科技進步作出了重（chóng）大（dà）貢獻。