直流磁（cí）控濺射和中（zhōng）頻磁控濺射是（shì）常見的濺射鍍膜工藝，但這兩種常見的濺射工藝有什麽區別1.直流磁控濺射濺射與氣壓的關係——要在一定範圍內提高電離率（lǜ）(在盡可能低的壓力下保持較高的電離率)，要提高均勻性，就要在保證膜的純度的同時增加壓力，而要提高膜

傳統水電（diàn）鍍因其廢水處理成本高、能耗（hào）高、水資源（yuán）浪費嚴重、環境汙染嚴重等問題，一直受到國家和地方各級政府的製約。真空鍍膜設備可以替代傳統水電鍍的表（biǎo）麵處理（lǐ）方式，實現傳統（tǒng）水電鍍的技術升級改造。讓（ràng）我們來看（kàn）看它相對於（yú）傳統水電鍍的優勢。1.無環境汙染由

1.1真空鍍膜:在真空（kōng）條件下在基材上製備（bèi）薄（báo）膜層的方法。1.2底（dǐ）物:膜層受體。1.3測試基材:在（zài）塗層過程開始（shǐ）、過（guò）程中或之後用於測量和（hé）/或測試的基材。1.4塗層（céng）材料:用於（yú）製作塗層的原材料。1.5蒸發材料:真空蒸發中用於蒸發的塗層材料。1.6濺射

真（zhēn）空鍍膜應用廣泛（fàn），如真空鍍鋁、真空鍍膜在塑料等基材上，再經過不同顏（yán）色的染色處理，可用於家具、工藝品（pǐn）、燈飾、鍾表、玩具、汽車燈（dēng）具、鏡子（zǐ）及軟（ruǎn）包裝材料等產品的製（zhì）造，裝飾效果非常好。真空鍍膜（mó）技術的特點：1、塗層材料種類繁多（duō）：可作為真空鍍膜蒸發材（cái）料有

1、概念差異1.真空鍍膜是指在高真空條件（jiàn）下加熱金屬或非金屬材料（liào），使（shǐ）其在被鍍（dù）件(金屬、半導體（tǐ）或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍（dù）鉻等。2.光學鍍膜是（shì）指在光學（xué）元件（jiàn）表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的（de）工藝。在光學

鏡片在接受（shòu）鍍（dù）膜前必須進行預（yù）清洗，這（zhè）種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液（yè），並采用超聲波加強清洗效果（guǒ），當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附（fù）在鏡片表麵。最（zuì）後的清洗是在真空艙內（nèi），在此過程