了（le）解真空（kōng）鍍（dù）膜和光學鍍膜的區別

1、概念差異

1. 真空鍍膜是指在高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表（biǎo）麵（miàn）蒸發凝（níng）結形成薄膜的一種方（fāng）法（fǎ）。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學（xué）鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一（yī）層(或多層)金屬(或介電)薄（báo）膜的工藝。在光學元件表麵塗膜的（de）目的是為了減少或增加光（guāng）的反（fǎn）射、分束（shù）、分色、過濾（lǜ）、偏（piān）振等要求（qiú）。常用的包覆方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方（fāng）麵，它以真空技術為基礎（chǔ），利用物理或化學方法，吸（xī）收了電子束、分子束、離子束（shù）、等離子體束、射頻、磁（cí）控管等一係列（liè）新技術，為科學研究和實際生產提供了（le）薄膜製備的新工藝。簡（jiǎn）單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以使其（qí）凝固並沉積在塗層物（wù）體(稱（chēng）為基材、襯底或（huò）襯（chèn）底)上的方法。

2. 光的幹涉在薄膜（mó）光學中有著廣泛的（de）應用。光學薄膜技術（shù）常用的（de）方法是通（tōng）過真空濺射在玻（bō）璃（lí）基板上塗覆薄膜，一般用來（lái）控製基板對入射光束的反射率和透射率，以（yǐ）滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失，提高成（chéng）像質（zhì）量，在表（biǎo）麵塗（tú）上一層或多層透明的介電膜，稱為抗反射膜或（huò）抗反射膜。

隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透射率有（yǒu）了不同的（de）要求，促進了多層高反射膜（mó）和寬帶（dài）增透膜的發展。為滿足各種（zhǒng）應用的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜（mó）、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾（lǜ）光片等。光（guāng）學（xué）元（yuán）件表麵塗覆後（hòu），光在膜層上多次反射透射，形成多束（shù）幹涉。通過控製膜層的（de）折射率和厚度，可以（yǐ）得到不同的光強分布，這（zhè）是幹涉鍍膜的基本（běn）原理。

3、方（fāng）法和（hé）材料的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空（kōng）蒸發（fā）鍍:將（jiāng）待鍍基（jī）材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽（chōu）真空後，將薄膜（mó）材料（liào）加熱到高溫，使蒸氣（qì）達到約13.3Pa，使（shǐ）蒸氣分子飛到基片（piàn）表麵，凝結（jié）成薄膜。

(2)陰 極濺射鍍:將（jiāng）待鍍基材置於（yú）陰 極的對麵，在真（zhēn）空室中（zhōng）引入惰性氣體(如氬氣)，保持（chí）壓（yā）力約1.33-13.3Pa，然後將陰 極接在2000V直流電源上刺激輝光放電。正氬離子撞（zhuàng）擊陰 極，使其釋放出原子。濺落的（de）原子通過惰性氣（qì）氛沉積在（zài）襯底上（shàng），形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬或有機化（huà）合物進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本（běn）質上是真空（kōng）蒸發鍍和陰 極濺射鍍的有機結合，具有兩者的（de）工藝特點。各種塗覆方式的優缺（quē）點如表（biǎo）6-9所示。

2. 光學鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四方（fāng）結晶粉末，用（yòng）於光學鍍膜，提高透光率，防止坍塌點。

(2)二（èr）氧化矽:無色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用於（yú）製備高品質SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使用要（yào）求分為（wéi）紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯（gào）:白色重晶態，具有高折射率和（hé）耐高（gāo）溫性能，化學性質穩定，純度高。用於製備無坍塌點的高質（zhì）量氧化（huà）鋯塗層。