脈衝磁控濺射（shè）是（shì）一種用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可以有效（xiào）抑製電（diàn）弧（hú）的產（chǎn）生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射（shè）的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積（jī）的工藝。脈衝磁控濺射的（de）工（gōng）作原理一個周期有正電壓

說起單（dān）極脈衝磁控（kòng）濺（jiàn）射電（diàn）源，可能有（yǒu）點（diǎn）困惑，但我想說的是，它是對直流磁控濺射電源的升級，是不（bú）是突然明白了？脈衝磁（cí）控濺射是用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的一種方法。脈衝濺射可以有效（xiào）地抑製電弧的產生（shēng），消除由（yóu）此產生的薄膜缺（quē）陷，同時可以提高濺射（shè）的