北京MSD係列直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高（gāo）了抑（yì）製打火及重啟速度，應用在鋁靶（bǎ）鍍膜優勢更（gèng）為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式（shì）可選。恒功率模式相對於傳統的恒（héng）流模式，
更能保證鍍膜工藝（yì）的重複性。
  C 具有理想的電（diàn）壓陡降（jiàng）特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控（kòng）濺射工藝過程的連續性（xìng）。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈（mò）寬調（diào）製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝（yì）的重複（fù）性，
並且具（jù）有抑製靶材弧光放電及抗短路（lù）功能（néng），
具有極佳（jiā）的負載匹配能力，既保證了靶麵（miàn）清洗工藝（yì）的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口擴展功（gōng）能，方（fāng）便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種（zhǒng）金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源（yuán）的應用可以說是隨處可見的，或許（xǔ）正是因為電源（yuán）的普遍應用（yòng），所以電源的（de）類型也隨之而多樣。真空鍍（dù）膜電源（yuán）是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電（diàn）源有一定的（de）區別，單是電源（yuán）的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學（xué）鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入（rù）不同傳遞物質（zhì）時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在（zài）光學瞄準（zhǔn）鏡中有許多（duō）透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射（shè）光線損失達（dá）30%至（zhì）40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透（tòu）膜，單（dān）層增透（tòu）膜可使反射減（jiǎn）少至（zhì）1.5%，多層增透膜則可讓反射（shè）降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加（jiā）以適當鍍膜，光線透穿率可（kě）達95%。鍍了單層增透膜的（de）鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真（zhēn）空鍍膜機（jī）增透（tòu）膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的（de）過程中，在不（bú）同介質的分界麵上（shàng），由於邊界條件的（de）不（bú）同，改變了其能（néng）量的分布。對於單層薄膜（mó）來說，當增透膜兩邊（biān）介質（zhì）不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射（shè）率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的（de）折（shé）射率），才可以使入（rù）射光全部透（tòu）過介質。一般光學透鏡都是在空氣中（zhōng）使用，對（duì）於一般折射（shè）率在1.5左右（yòu）的光（guāng）學玻（bō）璃，為使單層膜達到100%的（de）增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍（bèi）四分（fèn）之一（yī）個波長（zhǎng）。單層膜（mó）隻對某一特定波長（zhǎng）的電磁波增（zēng）透，為使在更大範圍內和（hé）更多波（bō）長實現增透（tòu），人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作（zuò）為增透膜（mó）的材料；同時也（yě）掌握了不少（shǎo）先進的鍍膜技術，因此增透（tòu）膜的應（yīng）用涉及醫（yī）學、軍事（shì）、太（tài）空探索等各行各（gè）業，為人類科技進步作出了重大貢獻。