江蘇MSD係列（liè）直流磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源（yuán）技術，減小輸出儲能元件，
同時（shí）提高（gāo）了抑製打火及重（chóng）啟速度，應（yīng）用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜（mó）工藝（yì）的（de）重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火（huǒ）現象，
充分滿（mǎn）足磁控（kòng）濺射工藝過程的連（lián）續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進（jìn）口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性（xìng）能穩定可（kě）靠，生（shēng）產工藝（yì）嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並（bìng）且具有抑製靶材（cái）弧光放電及（jí）抗短路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要（yào）參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便（biàn）維（wéi）護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直流磁（cí）控濺射用於（yú）鍍製各種金屬

在電子科技快速發（fā）展的時代中，電源的應用可以（yǐ）說是隨處可見（jiàn）的，或許正是因為電源的普遍應（yīng）用，所（suǒ）以電（diàn）源的類型也隨之而（ér）多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定（dìng）的區別，單是電（diàn）源的外觀（guān）就有明顯的不同。

     真空鍍（dù）膜機光（guāng）學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質（zhì）時（如由空氣進入玻璃），大約（yuē）有5%會被反（fǎn）射掉，在光（guāng）學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起（qǐ）來可以讓（ràng）入射光線損失（shī）達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單（dān）層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少（shǎo）至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增（zēng）透膜（mó）的鏡片通常是（shì）藍紫（zǐ）色或是紅色，鍍多層增透（tòu）膜的鏡片則呈淡（dàn）綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射（shè）光強度的實質是作為電（diàn）磁波的光波在傳播的過（guò）程中，在不同介質的分界麵上（shàng），由於邊界條件的不同，改變了其能量（liàng）的分布。對於單層薄膜來說（shuō），當增透（tòu）膜兩邊介質（zhì）不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是介質1、2的折射率），才（cái）可以使入（rù）射光全部透（tòu）過（guò）介質。一般光學透鏡都是在空氣中（zhōng）使用（yòng），對於一般折射率在（zài）1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的（de）增透效果，可（kě）使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍（bèi）四分之一（yī）個波（bō）長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更（gèng）大範圍內和更多波長實現增透（tòu），人們（men）利用鍍多層膜來實現（xiàn）。

人們對增透膜的利用（yòng）有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材（cái）料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。