主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 蕞大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇(zé)三角波(bō)、矩形波、正弦波三種波形,波形的蕞高值和蕞低值(zhí)可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波(bō)形頻率範圍:0.1-50Hz
D三(sān)角波(bō)、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選(xuǎn)配(pèi)RS485通訊接口。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產(chǎn)工藝嚴格完善。
該係(xì)列產品(pǐn)采用先進的DSP控(kòng)製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功(gōng)能(néng),
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又(yòu)提高了靶麵清洗速度;
主(zhǔ)要參數均(jun1)可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能(néng),方便實現自動化控製(zhì)。
主要用(yòng)途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓(yā)波形輸出。通過驅(qū)動多弧靶外圍磁場(chǎng)線(xiàn)圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均(jun1)勻放電,提高工件膜層質量

現在工業區,在範圍上擴展的是(shì)越來越廣,跟隨我們行業的發展(zhǎn),現在機械設備研發的是越(yuè)來越多,當然啦,研發那麽多,在(zài)一些加工廠家肯定是要應用到的啦,在範圍上(shàng),在數量上都不會少,現在我(wǒ)們來了解(jiě)下真空鍍(dù)膜電源這(zhè)項項目吧!

1、在(zài)光學儀器中:人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放(fàng)大鏡等,它們都離不開鍍膜(mó)技術,鍍製的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
2、在信息存儲領域中:薄膜材料作為信(xìn)息記錄於存儲介質,有其得天(tiān)獨厚的優勢:由於薄膜很薄,可以忽(hū)略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜麵平行的雙穩態狀態(tài)容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。
3、在傳(chuán)感器方麵:在傳感器(qì)中,多采用那些電氣性質相對於物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表麵、界麵的(de)性質,需要盡量增大其麵積,且能工業化、低價格製作,因此,采用薄膜的情況很多。
4、在集(jí)成電(diàn)路製造中:晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其合金)等,多是(shì)采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺(jiàn)射技術(shù)。可見,氣(qì)相沉積是製備集成電路的核心技術之一。
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